Patent applications; Complementary metal oxide semiconductors; Radiation hardening; Radiation effects; Voltage; Integrated circuits; Substrates; Field effect transistors; Ionizing radiation; Radiation dosage; Nmos(N channel metal oxide semiconductors); Leakage curre;
机译:对辐射硬化的CMOS图像传感器暴露于超高压总电离剂量的退火效应
机译:用于纳米卫星的采用180 nm CMOS技术的辐射硬化混合信号微控制器SoC的总电离剂量特性
机译:纳米卫星180nm CMOS技术中辐射硬化混合信号微控制器SOC的总电离剂表征
机译:总剂量辐射对硬化的CMOS /本体和CMOS / SOS的影响
机译:植入式医疗设备的总剂量效应和按设计硬化方法。
机译:使用氟处理的MOHOS改善总电离剂量辐射传感器的性能
机译:用于多MGy总电离剂量环境的数字彩色CMOS片上相机构建基块的辐射硬化