Processing equipment; Silicon; Gates(Circuits); Metal oxide semiconductors; Deposition; Plasmas(Physics); Dielectrics; Metals; Multiprocessors; Optimization; Processing; Reduction; Temperature; Rates; Growth(General); Layers; Electrical properties; Monitoring; Real ti;
机译:用于高级双栅氧化物p沟道金属氧化物半导体场效应晶体管的等离子体氮化和热氮化氧化物可靠性问题的系统研究
机译:金属栅对氮化钛/二氧化ha中n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管中远程声子散射的影响-低温电子迁移率研究
机译:通过远程等离子体增强CVD和沉积后快速热退火制备的具有氮化的Si-SiO / sub 2 /界面的超薄氮化硅/氧化物堆叠栅极电介质的PMOSFET的性能和可靠性
机译:新型快速热/等离子体多处理反应器中的原位MOS栅极工程
机译:用于金属氧化物半导体栅极介电应用的二氧化硅远程等离子体氮化研究。
机译:使用单模微波氧化铟锡和金属辅助微波加速蒸发结晶法对L-丙氨酸进行超快速结晶
机译:高k /金属栅极材料上的等离子体等离子体和热ALD的成核和生长