机译:超大型系统集成(ULSI)中铜化学机械抛光(CMP)和CMP后清洗的综述-电化学角度
Copper; ULSI; CMP; Passivity; Post-CMP cleaning;
机译:超大型系统集成(ULSI)中铜化学机械抛光(CMP)和CMP后清洗的综述-电化学角度
机译:用于CMP和CMP后清洁的基于羟胺的化学品中铜的缓蚀剂
机译:研究双大马士革铜技术的CMP和CMP后清洁问题
机译:利用分裂抛光和清洁比较评价非接触式CMP清洁过程
机译:开发用于a-SiC和锰CMP的配方以及CMP后的钴清洗。
机译:KDP油包水型微乳液用于KDP晶体的超精密化学机械抛光
机译:CMP后(化学机械抛光)清洁中的纳米颗粒去除
机译:采用化学机械抛光(Cmp)和热氧化的纳米通道制造技术