机译:表面终止对掺硼金刚石(BDD)界面电化学性能的影响
boron-doped diamond electrode; charge transfer kinetics; Mott-Schottky; flat band potential; surface termination; CONTROLLED ANODIC TREATMENTS; CHARGE-TRANSFER REACTIONS; DIFFERENT DOPING LEVELS; THIN-FILM ELECTRODES; POLYCRYSTALLINE DIAMOND; CVD-DIAMOND; SEMICONDUCTOR DIAMOND; DEPOSITION PROCESSES; IMPEDANCE; MICROSCOPY;
机译:表面终止对掺硼金刚石(BDD)界面电化学性能的影响
机译:表面取向对硼掺杂金刚石电化学性质的影响
机译:通过改变表面末端来控制掺硼金刚石/电解质界面上光生载流子的动力学
机译:表面终端对硼掺杂金刚石电化学性能的影响
机译:掺硼金刚石阳极表面终止对水性化合物氧化的影响。
机译:硼掺杂金刚石阳极在水介质中间苯二酚的电化学氧化:反应动力学和响应面法优化工艺
机译:用于紫杉醇和奥沙利铂在水溶液中的电化学检测的铜改性硼掺杂金刚石(Cu / BDD)电极
机译:嘌呤碱的电化学性质:在生物结合物与无机表面之间的界面处