机译:通过Al(100)的各向异性阳极刻蚀制造具有高深宽比的有序沟槽结构
机译:通过Al(100)的各向异性阳极刻蚀制造具有高深宽比的有序沟槽结构
机译:使用近场扫描光学光刻和硅各向异性湿法刻蚀工艺制备高纵横比的硅纳米结构
机译:两阶段等离子体化学循环过程中高纵横比和孔径为30-50 nm的硅的各向异性沟槽蚀刻
机译:GaN的氢环境各向异性热蚀刻(加热),用于制备高型纳米结构
机译:复合多层膜结构,用于折射率定制和Ald高纵横比沟槽填充。
机译:通过各向异性蚀刻制备的均匀分层MFI纳米片用于基于溶液的亚100纳米以下取向的MFI层制造
机译:通过(100)单晶si的各向异性化学蚀刻制备siO2基微悬臂梁