机译:增强模式的建模与仿真P-GaN门Algan / GaN HEMT用于RF电路开关应用
Microelectronics and VLSI Design Group Department of Electronics and Communication Engineering National Institute of Technology Silchar Assam 788010 India;
Microelectronics and VLSI Design Group Department of Electronics and Communication Engineering National Institute of Technology Silchar Assam 788010 India;
CLM; DIBL; GaN; HEMT; SPST; Verilog-A;
机译:增强模式的建模与仿真P-GaN门Algan / GaN HEMT用于RF电路开关应用
机译:用于功率应用的SiC和Si衬底上常关p-GaN栅极AlGaN / GaN HEMT的高温性能
机译:常关P-GaN门Algan / GaN HEMT作为片上电容的建模与分析
机译:缓冲结构对功率开关应用中常关型p-GaN / AlGaN / GaN HEMT的俘获特性的影响
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:0.1μmAlGaN / GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺的改进大信号模型及其在W波段实用单片微波集成电路(MMIC)设计中的应用
机译:0.1μmAlgan/ GaN高电子迁移率(HEMTS)工艺的改进的大信号模型及其在W频段中实际单片微波集成电路(MMIC)设计中的应用