机译:常关P-GaN门Algan / GaN HEMT作为片上电容的建模与分析
IIT Kharagpur Dept Elect & Elect Commun Engn Kharagpur 721302 W Bengal India;
Globalfoundries RF Compact Modeling Team Bangalore 560045 Karnataka India;
IIT Kharagpur Dept Elect & Elect Commun Engn Kharagpur 721302 W Bengal India;
2-D electron gas (2DEG) density; capacitance; equivalent circuit model; GaN high electron mobility transistor (HEMT); modeling; normally-OFF; p-GaN gate;
机译:常关P-GaN门控AlGaN / GaN Hemts使用等离子体氧化技术在接入区域中
机译:普通of of ovall / gan hemts的肖特基/欧姆型P-GaN门中栅极不稳定特性的研究
机译:肖特基门P-Gan / AlGan / GaN Hemts常关操作的设计考虑因素
机译:用于常断型AlGaN / GaN HEMT的嵌入式和P-GaN再生栅极开发
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:用多指架构调制对高功率应用的自终止蚀刻技术常关P-GAN / ALGAN / GAN HEMT的研究
机译:常关P-GaN门控AlGaN / GaN Hemts使用等离子体氧化技术在接入区域中