机译:掺杂类型和水平对电镀蚀刻形成的多孔Si形态的影响
Natl Res Univ Elect Technol MIET Moscow 124498 Russia;
Natl Res Univ Elect Technol MIET Moscow 124498 Russia;
Natl Res Univ Elect Technol MIET Moscow 124498 Russia;
Russian Acad Sci Inst Nanotechnol Microelect Moscow 119991 Russia;
Sci Mfg Complex Technol Ctr MIET Moscow 124498 Russia;
Russian Acad Sci Inst Nanotechnol Microelect Moscow 119991 Russia;
机译:掺杂类型和水平对电镀蚀刻形成的多孔Si形态的影响
机译:起始硅单晶掺杂水平对电化学蚀刻产生多孔硅结构参数的影响
机译:刻蚀电流密度对多孔硅层形貌和Sn / PS / p-Si / Al双结电性能的影响
机译:刻蚀时间对电势电化学刻蚀形成的多孔硅结构形貌的影响
机译:化学腐蚀产生的多孔氮化镓:形态,光学性质和传感应用。
机译:照明对不同掺杂水平的p型硅光辅助刻蚀形成多孔硅的影响
机译:用不同掺杂水平对P型Si光辅助蚀刻形成多孔硅的影响