机译:用于MEMS应用的单层薄光致抗蚀剂软蚀刻掩模
NIT Sch Nano Sci &
Technol Nanomat &
Devices Res Lab Calicut Kerala India;
CSIR CEERI Sensors &
Nanotechnol Grp Pilani Rajasthan India;
CSIR CEERI Sensors &
Nanotechnol Grp Pilani Rajasthan India;
NIT Sch Nano Sci &
Technol Nanomat &
Devices Res Lab Calicut Kerala India;
CSIR CEERI Sensors &
Nanotechnol Grp Pilani Rajasthan India;
机译:用于MEMS应用的单层薄光致抗蚀剂软蚀刻掩模
机译:使用单涂层软掩模层对熔融石英进行深层反应离子刻蚀,用于生物分析应用
机译:EBDW光刻中的AZ 5214E抗蚀剂及其在N 2 sub>等离子体中刻蚀薄Ag层时用作RIE刻蚀掩模
机译:针对MEMS /传感器应用的金属薄层蚀刻工艺的优化*
机译:软基底上硬质薄层的表征-理论及其在表面改性PDMS上的应用
机译:具有Ru籽晶层的MEMS不可蒸发吸气薄膜的研制与表征
机译:AZ 5214e抗蚀于EBDW光刻及其作为在N2等离子体中蚀刻薄AG层的RIE蚀刻掩模的用途