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The AZ 5214E Resist in EBDW Lithography and its Use as a RIE Etch–Mask in Etching Thin Ag Layers in N2 Plasma

机译：AZ 5214e抗蚀于EBDW光刻及其作为在N2等离子体中蚀刻薄AG层的RIE蚀刻掩模的用途

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作者
Robert Andok; Anna Benčurová; Pavol Nemec; Anna Konečníková; Ladislav Matay; Jaroslava Škriniarová; Pavol Hrkút;
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年度 2013
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