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机译:沉积条件对血浆辅助化学气相沉积法制备的A-C:H:SIOx薄膜光学性质的影响
Russian Acad Sci Inst High Current Elect Siberian Branch Akad Ave 2-3 Tomsk 634055 Russia;
Natl Res Tomsk Polytech Univ Lenin Ave 30 Tomsk 634055 Russia;
Russian Acad Sci Inst High Current Elect Siberian Branch Akad Ave 2-3 Tomsk 634055 Russia;
Substrate bias; Ar pressure; Transmission; Optical band gap; Urbach energy;
机译:沉积条件对血浆辅助化学气相沉积法制备的A-C:H:SIOx薄膜光学性质的影响
机译:射频等离子体辅助化学气相沉积法合成的a-C:H:SiOx涂层的机械特性
机译:射频等离子体增强化学气相沉积法制备掺Si的a-C:H薄膜的电学和光学性质
机译:在露天条件下微波等离子体辅助化学气相沉积制备的薄膜的性质
机译:通过等离子体辅助化学气相沉积制备的类金刚石碳膜的热降解和摩擦学行为。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:射频增强等离子体化学气相沉积(RF pECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性质和沉积速率的影响
机译:衬底对金属有机化学气相沉积制备的外延pbTiO(sub 3)薄膜的结构和光学性质的影响