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张受业; 王正铎; 陈强; 刘忠伟; 刘福平;
中国振动工程学会;
中国包装联合会;
磁增强等离子体; 化学气相沉积; 氧化硅; 高阻隔薄膜; 阻隔性能; 包装材料;
机译:等离子体增强化学气相沉积法制备SiOx:H薄膜的微观结构
机译:等离子体介质阻挡放电等离子体增强化学气相沉积法制备TiOx薄膜
机译:低温沉积及等离子体功率对改性等离子体增强化学气相沉积法制备的氧化锡薄膜的影响
机译:辊轧工艺中磁化等离子体增强化学气相沉积法制备SiOx阻挡层的性能
机译:使用直流等离子体等离子体增强化学气相沉积法合成化学计量的氢化非晶碳化硅薄膜。
机译:脉冲等离子体化学气相沉积法制备纳米多孔非晶碳化硼薄膜的摩擦学和热稳定性研究
机译:N2:(N2 + CH4)比对低温等离子体增强化学气相沉积法制备疏水纳米结构氢化碳氮化物薄膜的研究
机译:微波等离子体增强化学气相沉积法制备氮化硅晶体薄膜
机译:微波等离子体化学气相沉积法制备SIOX过程化学
机译:等离子体增强化学气相沉积法制备具有高机械性能的K <2.2的超低K薄膜的新型硅前驱物
机译:等离子体增强金属有机化学气相沉积法制备P-ZNO薄膜
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