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机译:氢等离子体处理的硅中结构缺陷形成的衬底取向,掺杂和等离子体频率依赖性
Mechanism; Exfoliation; Platelets; Molecule;
机译:氢等离子体处理的硅中结构缺陷形成的衬底取向,掺杂和等离子体频率依赖性
机译:氢等离子体处理的多晶硅中扩展缺陷处氢缺陷形成的透射电镜研究
机译:Si +注入然后等离子氢化和H +注入结晶硅中结构缺陷形成的比较分析
机译:Si〜+植入结构缺陷形成的比较分析,然后血浆氢化和H〜+植入晶体硅
机译:在氢等离子体处理的硅上进行正电子an没测量。
机译:氢等离子体处理非晶碳化硅基体减少硅量子点超晶格结构缺陷的研究
机译:在低衬底温度下通过射频等离子体增强化学气相沉积法沉积的掺杂非晶硅和纳米晶硅的电子和结构性质