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机译:负的低自偏压对通过PECVD技术沉积的氢化非晶碳膜的影响
Amorphous hydrogenated carbon; Plasma CVD; Surface energy; Stress;
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机译:在低自偏压范围内通过PECVD沉积的非晶氢化碳膜的物理和化学性质
机译:通过PECVD沉积的无定形氢化碳膜:薄膜生长期间氮气掺入,等离子体表面处理
机译:用微波ECR等离子体反应器沉积氢化非晶碳膜的膜性能和沉积过程的研究。
机译:通过PECVD在镍金属化多孔硅上沉积的非晶硅薄膜的结晶
机译:使用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)技术沉积的氢化非晶碳(a-C:H)薄膜的结构和光学性质
机译:等离子体沉积的无定形氢化碳膜及其摩擦学性能