机译:使用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)技术沉积的氢化非晶碳(a-C:H)薄膜的结构和光学性质
机译:通过等离子体增强化学气相沉积法沉积的器件级氢化非晶硅氮薄膜的光学,结构和电学性质
机译:掺杂铁对等离子体增强化学气相沉积制备的氢化非晶碳膜结构,电子结构和光学性质的影响
机译:氢稀释对通过等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)制备的氢化纳米晶硅(nc-Si:H)薄膜的结构,电学和光学性质的影响
机译:通过直接电流 - 等离子体增强化学气相沉积的未掺杂的金刚石碳薄膜:结构和电气性能
机译:使用直流等离子体等离子体增强化学气相沉积法合成化学计量的氢化非晶碳化硅薄膜。
机译:等离子体增强原子层沉积在低温下沉积的HfO2薄膜的结构光学和电学性质
机译:通过等离子体增强化学气相沉积和等离子体浸没离子注入和沉积获得的非晶态碳质薄膜的光学,机械和表面特性