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International Symposium on Semiconductor Manufacturing
International Symposium on Semiconductor Manufacturing
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1.
AlN filler for high thermal conductive resin materials
机译:
用于高导热树脂材料的ALN填料
作者:
Yoshitaka Inaki
;
Hisamori Inagawa
;
Saiko Fujii
;
Isao Masada
;
Teruhiko Nawata
;
Yukihiro Kanechika
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Powders;
Thermal conductivity;
Filling;
Resins;
III-V semiconductor materials;
Surface treatment;
Aluminum nitride;
2.
Recent Progress on Spin-on Inorganic Materials
机译:
旋转无机材料的最新进展
作者:
Kazunori Sakai
;
Kazunori Takanashi
;
Tatsuya Sakai
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Performance evaluation;
Radiation effects;
Semiconductor devices;
Inorganic materials;
Throughput;
Manufacturing;
Thermal stability;
3.
Predicting and considering properties of general polymers using incomplete dataset
机译:
使用不完全数据集预测和考虑一般聚合物的特性
作者:
Hitoshi Yamano
;
Hiroaki Shimizu
;
Shigehiko Kanaya
;
Tomoyuki Miyao
;
Aki Morita Hirai
;
Naoaki Ono
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Temperature;
Materials reliability;
Glass;
Predictive models;
Data models;
Manufacturing;
Polymers;
4.
Anomaly detection and analysis by a gradient boosting trees and neural network ensemble model
机译:
异常升降树木和神经网络集合模型的异常检测和分析
作者:
Takayuki Nishimura
;
Tanaka Hisanori
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device modeling;
Analytical models;
Manufacturing processes;
Neural networks;
Predictive models;
Boosting;
Anomaly detection;
5.
AI-FDC: Automated Top Down System for Fab Wide Process Equipment Health Monitoring
机译:
AI-FDC:自动化FAB广播工艺设备健康监控系统
作者:
Richard Burch
;
Michael Keleher
;
Kazuki Kunitoshi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Electric breakdown;
Fault detection;
Process control;
Machine learning;
Software;
Manufacturing;
Monitoring;
6.
Seasoning Optimization by Using Optical Emission Spectroscopy
机译:
使用光学发射光谱分析优化
作者:
Masahiro Shiga
;
Haruki Omine
;
Masaki Kitsunezuka
;
Hironori Moki
;
Yuki Kataoka
;
Takahito Matsuzawa
;
Yasuhisa Suzuki
;
Yusuke Fukazawa
;
Tsuyoshi Makita
;
Kazuyuki Takasawa
;
Takuo Yamamoto
;
Takao Funakubo
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Spectroscopy;
Stimulated emission;
Process control;
Sensor phenomena and characterization;
Manufacturing;
Optical sensors;
Indexes;
7.
Study on Measurement Method of Microscopic ζ Potential
机译:
显微镜测量方法研究
作者:
Yuichi Watanabe
;
Hirofumi Ikawa
;
Shota Suzuki
;
Takeshi Isobe
;
Tatsuhiko Hirano
;
Kazumi Sugai
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device measurement;
Liquids;
Microscopy;
Electrostatic measurements;
Manufacturing;
Electrostatics;
Slurries;
8.
Welcome Message
机译:
欢迎信息
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
9.
Feature Extraction from Equipment Sensor Signals with Time Series Clustering and Its Application to Defect Prediction
机译:
具有时间序列聚类的设备传感器信号的特征提取及其在缺陷预测中的应用
作者:
Daisuke Hamaguchi
;
Tomonari Masada
;
Takumi Eguchi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device modeling;
Semiconductor device measurement;
Clustering methods;
Time series analysis;
Probability;
Feature extraction;
Data mining;
10.
High- Throughput Direct Adaptive Imaging System with Novel Measurement Tool for Heterogeneous Integration
机译:
具有新型测量工具的高通量直接自适应成像系统,用于异构集成
作者:
S. Majima
;
A. Hatano
;
S. Takada
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device measurement;
Lithography;
Imaging;
Tools;
Position measurement;
Packaging;
Throughput;
11.
Reliability and High-Frequency Filter Characteristics of a Low-Loss Material for 5G RF Modules
机译:
5G RF模块的低损耗材料的可靠性和高频滤波器特性
作者:
Takenori Kakutani
;
Yuya Suzuki
;
Muhammad Ali
;
Serhat Erdogan
;
Mohanalingam Kathaperumal
;
Madhavan Swaminathan
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
5G mobile communication;
Dielectric materials;
Dielectric losses;
Materials reliability;
Propagation losses;
Integrated circuit reliability;
Substrates;
12.
Using Quartz Crystal Microbalance to Provide Real-Time Process Monitoring
机译:
使用石英晶体微稳定提供实时过程监控
作者:
Hirofumi Tsuchiyama
;
Steven Lakeman
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Process monitoring;
Semiconductor device measurement;
Manufacturing processes;
Maintenance engineering;
Real-time systems;
Quartz crystals;
Manufacturing;
13.
A Statistical Study on Highly Accurate Quality Prediction for High-mix Low-Volume Semiconductor Products
机译:
高混合低批量半导体产品高准确质量预测的统计研究
作者:
Kosuke Okusa
;
Toshiya Okazaki
;
Shunsaku Yasuda
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Analytical models;
Computational modeling;
Production;
Predictive models;
Real-time systems;
Bayes methods;
Manufacturing;
14.
FDC Based on Neural Network with Harmonic Sensor to Prevent Error of Robot
机译:
基于谐波传感器的神经网络的FDC防止机器人误差
作者:
Kenta Kamizono
;
Kazutaka Ikeda
;
Hiroaki Kitajima
;
Satoshi Yasuda
;
Tomoya Tanaka
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Degradation;
Productivity;
Neural networks;
Robot sensing systems;
Harmonic analysis;
Manufacturing;
Monitoring;
15.
Planned Maintenance Schedule Update Method for Predictive Maintenance of Semiconductor Plasma Etcher
机译:
计划维护时间表更新方法,用于预测半导体等离子体蚀刻器的预测性维护
作者:
Shota Umeda
;
Kenji Tamaki
;
Masahiro Sumiya
;
Yoshito Kamaji
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Schedules;
Statistical analysis;
Maintenance engineering;
Probabilistic logic;
Plasmas;
Timing;
Predictive maintenance;
16.
Ar/N2-plasma Sputtering Pressure Dependence on Electrical Characteristics of HfON Tunneling Layer Formed by the Plasma Oxidation of HfN for Hf-Based MONOS Diodes
机译:
AR / N2-等离子溅射压力依赖于由基于HFN的血浆氧化形成的HFON隧道层的电特性,用于HFN基于HF的MONOS二极管
作者:
Jooyoung Pyo
;
Hiroki Morita
;
Akio Ihara
;
Ohmi Shun-ichiro
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Tunneling;
Oxidation;
Plasmas;
Hafnium compounds;
Semiconductor diodes;
MONOS devices;
Sputtering;
17.
Investigation of high-k HfN multilayer gate dielectrics for MISFET fabricated with Si surface flattening
机译:
用Si表面扁平化制造MISFET的高k HFN多层栅极电介质研究
作者:
Akio Ihara
;
Jooyoung Pyo
;
R. M. D. Mailig
;
Hiroki Morita
;
Shun-Ichiro Ohmi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
MISFETs;
Logic gates;
Nonhomogeneous media;
Silicon;
Dielectrics;
Surface treatment;
Hysteresis;
18.
Taking Engineering Automation to the Next Level with Artificial Intelligence
机译:
用人工智能将工程自动化带到一个新的水平
作者:
Peter Barar
;
Kim Kok Gan
;
Joe Lee
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Automation;
Transforms;
Production facilities;
Artificial intelligence;
Task analysis;
Floors;
Smart manufacturing;
19.
Minimization of CNN Training Data by using Data Augmentation for Inline Defect Classification
机译:
通过使用数据增强来最小化CNN培训数据,用于内联缺陷分类
作者:
Akihiro Fujishiro
;
Yoshikazu Nagamura
;
Tatsuya Usami
;
Masao Inoue
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Training;
Scanning electron microscopy;
Quality assurance;
Planarization;
Training data;
Silicon;
Manufacturing;
20.
Reduction of harmful effect due to by-product in CVD reactor for 4H-SiC epitaxy
机译:
CVD反应器中的副产物对4H-SIC外延的副产物降低有害作用
作者:
Yoshiaki Daigo
;
Toru Watanabe
;
Akio Ishiguro
;
Shigeaki Ishii
;
Mitsuhiro Kushibe
;
Yoshikazu Moriyama
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Heating systems;
Fluctuations;
Films;
Maintenance engineering;
Silicon;
Epitaxial growth;
Inductors;
21.
Impact of precise temperature control for 4H-SiC epitaxy on large diameter wafers
机译:
精确温度控制对大直径晶圆的4H-SIC外延的影响
作者:
Yoshiaki Daigo
;
Toru Watanabe
;
Akio Ishiguro
;
Shigeaki Ishii
;
Mitsuhiro Kushibe
;
Yoshikazu Moriyama
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Temperature sensors;
Temperature measurement;
Temperature distribution;
Fluctuations;
Films;
Doping;
Monitoring;
22.
ISSM 2020 Committee
机译:
ISSM 2020委员会
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
23.
Ageing Monitoring of GaN Transistors using Recurrent Neural Networks
机译:
使用反复性神经网络的GaN晶体管的老化监测
作者:
Florian Chalvin
;
Yoshinori Miyamae
;
Koki Sakamoto
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Degradation;
Semiconductor device measurement;
Recurrent neural networks;
Voltage measurement;
Transistors;
Gallium nitride;
Monitoring;
24.
Ni Diffusion Behavior and Bondability of Electroless NiP/PdP/Au Film
机译:
无电镀NIP / PDP / Au膜的Ni扩散行为和粘合性
作者:
Akifumi Kurachi
;
Katsuyuki Tsuchida
;
Takatomo Kawai
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Temperature dependence;
Heat treatment;
Wires;
Nickel;
Reliability;
Bonding;
Surface treatment;
25.
Analysis of Visualized Complex Reaction Network in Low- Temperature Molecular Plasma
机译:
低温分子血浆中可视复合反应网络的分析
作者:
Osamu Sakai
;
Yasutaka Mizui
;
Kyosuke Nobuto
;
Shigeyuki Miyagi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Visualization;
Machine learning;
Regulation;
Plasmas;
Complexity theory;
Complex systems;
Plasma temperature;
26.
A New Smart-MicroSystems Age Enabled by Heterogeneous Integration of Silicon-Centric and AI Technologies-My Personal View
机译:
通过硅中心和AI技术的异构整合实现了新的智能微系统 - 我的个人观点
作者:
Nicky Lu
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Micromechanical devices;
Integrated circuits;
Market research;
Silicon;
Energy efficiency;
Servers;
Artificial intelligence;
27.
A Study of the CMOS Image Sensor Semiconductor Business: Factors Maintaining the Long- Term Manufacturing Technology Superiority of IDM Companies
机译:
CMOS图像传感器半导体业务的研究:维持IDM公司长期制造技术优势的因素
作者:
Tetsuya Asami
;
Masaharu Tsujimoto
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Companies;
CMOS image sensors;
Manufacturing;
Photodiodes;
Task analysis;
Physics;
Business;
28.
The Benefits of Real-time Cloud Analytics in Semiconductor
机译:
半导体中实时云分析的好处
作者:
Gabe Villareal
;
Joe Lee
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Productivity;
Cloud computing;
Profitability;
Real-time systems;
Internet of Things;
Artificial intelligence;
Smart manufacturing;
29.
Quality Control of Trench Field Plate Power MOSFETs by Correlation of Trench Angle and Wafer Warpage
机译:
沟槽角度与晶圆翘曲的沟渠场板功率MOSFET的质量控制
作者:
Hiroaki Kato
;
Toshifumi Nishiguchi
;
Saya Shimomura
;
Katsura Miyashita
;
Kenya Kobayashi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device modeling;
MOSFET;
Correlation;
Quality control;
Oxidation;
Mathematical model;
Stress;
30.
Chamber and Recipe- Independent FDC indicator in High - mix Semiconductor Manufacturing
机译:
腔室和繁体的FDC指示器在高混合半导体制造中
作者:
Satoshi Yasuda
;
Tomoya Tanaka
;
Masaki Kitabata
;
Yuko Jisaki
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Statistical analysis;
Fault detection;
Tools;
Robot sensing systems;
Discharges (electric);
Manufacturing;
Sputtering;
31.
Etching characteristics of PECVD-prepared SiN films with CF4/D2 and CF4/H2 plasmas at different temperatures
机译:
用CF4 / D2和CF4 / H2等离子体在不同温度下蚀刻PECVD的SIN膜的特性
作者:
Shih-Nan Hsiao
;
Thi-Thuy-Nga Nguyen
;
Takayoshi Tsutsumi
;
Kenji Ishikawa
;
Makoto Sekine
;
Masaru Hori
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Silicon compounds;
Temperature dependence;
Temperature;
Etching;
Plasmas;
Plasma temperature;
Substrates;
32.
Process Optimization of Trench Field Plate Power MOSFETs with Sequential Phosphorus-Doped Silicon
机译:
顺序磷掺杂硅的沟槽场板功率MOSFET的过程优化
作者:
Kota Tomita
;
Tatsuya Shiraishi
;
Hiroaki Kato
;
Hiroyuki Kishimoto
;
Katsura Miyashita
;
Kenya Kobayashi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Annealing;
Temperature;
Doping;
Phosphorus;
Silicon;
Optimization;
Next generation networking;
33.
Study on ultra-trace metal analysis in organic solvent by re-dissolved method and direct method
机译:
重新溶解法和直接方法有机溶剂中超痕量金属分析研究
作者:
Hiromi Kimura
;
Noriko Tsujinaka
;
Toshimasa Katou
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Solvents;
Semiconductor device measurement;
Instruments;
Metals;
Plasma measurements;
Plasmas;
Manufacturing;
34.
Optimization of Multi-objective Function of n-step Hybrid Flowshop Scheduling
机译:
N步混合流量调度的多目标函数优化
作者:
Jia Lin
;
Tomoki Ono
;
Sho Morie
;
Qingxin Zhu
;
Yu Sasaki
;
Sumika Arima
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device modeling;
Solid modeling;
Analytical models;
Production systems;
Job shop scheduling;
Production planning;
Response surface methodology;
35.
Rapid Resolution of Parametric Failures in the Process Development Period by Integrating Device Physics and Big Data
机译:
通过集成设备物理和大数据来快速解决过程开发期间参数故障
作者:
Takahiko Hashidzume
;
Takatoshi Yasui
;
Tomoya Tanaka
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device modeling;
Spectroscopy;
Mass production;
Big Data;
Tools;
Metrology;
Physics;
36.
Improvement of Multi-lines bridge Defect Classification by Hierarchical Architecture in Artificial Intelligence Automatic Defect Classification
机译:
人工智能自动缺陷分类中分层架构的多线桥缺陷分类的改进
作者:
Bing-Sheng Lin
;
Jung-Syuan Cheng
;
Hsiang-Chou Liao
;
Ling-Wu Yang
;
Tahone Yang
;
Kuang-Chao Chen
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Bridges;
Training;
Scanning electron microscopy;
Visualization;
Inspection;
Manufacturing;
Artificial intelligence;
37.
CMP Process Optimization Engineering by Machine Learning
机译:
CMP工艺优化工程通过机器学习
作者:
Yu Hsiang-Meng
;
Lin Chih-Chen
;
Hsu Min-hsuan
;
Chen Yen-Ting
;
Chen Kuang-Wei
;
Tuung Luoh
;
Yang Ling-Wu
;
Yang Tahone
;
Chen Kuang-Chao
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Semiconductor device modeling;
Machine learning algorithms;
Process control;
Prediction algorithms;
Topology;
Tuning;
Optimization;
38.
Digital Transformation's Impact on Smart Manufacturing
机译:
数字转型对智能制造的影响
作者:
John Behnke
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Industries;
Job shop scheduling;
Digital twin;
Digital transformation;
Production facilities;
Real-time systems;
Smart manufacturing;
39.
Quality-Oriented Statistical Process Control Utilizing Bayesian Modeling
机译:
利用贝叶斯建模的质量统计过程控制
作者:
Kaito Date
;
Yukako Tanaka
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Process control;
Quality of service;
Quality control;
Product design;
Quality assessment;
Bayes methods;
Quantum cascade lasers;
40.
Smart Integrated Metrology Sampling
机译:
智能集成计量抽样
作者:
Hirofumi Tsuchiyama
;
David Wizelman
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2020年
关键词:
Job shop scheduling;
Systems architecture;
Machine learning;
System integration;
Metrology;
Production facilities;
Manufacturing;
41.
Precise Positioning System and Potential Application in a “SMART Fab”
机译:
精确的定位系统及其在“ SMART Fab”中的潜在应用
作者:
Chih Ming CHAN
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Real-time systems;
Manufacturing;
Software;
Production control;
Personnel;
Sensors;
42.
Multi-Process, Products and Machine Control Chart Application in Semiconductors
机译:
多工艺,产品和机器控制图在半导体中的应用
作者:
Cheng June Wu
;
Jui Chen Wei
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Process control;
Control charts;
Monitoring;
Standardization;
Foundries;
Patents;
43.
Novel CMP technology for removal rate control of SiN
机译:
新型CMP技术可控制SiN的去除率
作者:
Toshio Shinoda
;
Akira Endou
;
Kazumi Sugai
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Silicon compounds;
Additives;
Chemicals;
Silicon;
Substrates;
Computational modeling;
44.
Improving thickness uniformity of sputter-deposited films by using magnet rotation speed control technique
机译:
利用磁体转速控制技术提高溅射沉积膜的厚度均匀性
作者:
Tatsuhiko Miura
;
Shota Takita
;
Makoto Usuki
;
Seiichi Omoto
;
Takashi Nakagawa
;
Tsutomu Sato
;
Katsuyasu Shiba
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Magnetic films;
Velocity control;
Sputtering;
Magnetic semiconductors;
Process control;
Magnetic devices;
45.
Auto Threshold Management after Equipment Maintenance
机译:
设备维护后的自动门限管理
作者:
Hidetoshi Shinozaki
;
Tomonori Tanaka
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Maintenance engineering;
Market research;
Cleaning;
Manufacturing;
Fault detection;
Etching;
46.
Outlier Screening for Advanced Automotive Applications
机译:
适用于高级汽车应用的异常值筛选
作者:
Cinti Chen
;
Po-Hsien Chang
;
Xiao-Yu Li
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Anomaly detection;
Temperature measurement;
Databases;
Heuristic algorithms;
Monitoring;
Reliability;
Automotive engineering;
47.
Prediction of the Number of Defects in Image Sensors by VM using Equipment QC Data
机译:
VM使用设备QC数据预测图像传感器中的缺陷数量
作者:
Toshiya Okazaki
;
Kosuke Okusa
;
Kyo Yoshida
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Predictive models;
Semiconductor device modeling;
Data models;
Regression tree analysis;
Manufacturing;
Image sensors;
Semiconductor device measurement;
48.
Development of a Minimal multi-target helicon sputtering tool
机译:
最小化多靶螺旋溅射工具的开发
作者:
Kazunori Takahashi
;
Taichi Saito
;
Hiroyuki Kawasaki
;
Hayato Chiba
;
Naoyo Yamamoto
;
Hisashi Mizuguchi
;
Michihiro Inoue
;
Shiro Hara
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Sputtering;
Radio frequency;
Plasma sources;
Plasma density;
Tools;
Magnetic fields;
49.
Secondary electron spectroscopy for imaging semiconductor materials
机译:
用于半导体材料成像的二次电子光谱
作者:
Toshihide Agemura
;
Takashi Sekiguchi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Detectors;
Scanning electron microscopy;
Brightness;
Semiconductor materials;
P-n junctions;
Electric potential;
Spectroscopy;
50.
Gas Phase Pore Stuffing for the protection of organo-silicate glass dielectric materials
机译:
用于保护有机硅玻璃介电材料的气相孔填充
作者:
M. Fujikawa
;
J. -F. de Marneffe
;
R. Chanson
;
K.Babaei Gavan
;
A. Rezvanov
;
F. Lazzarino
;
Z. Tokei
;
T. Yamaguchi
;
S. Nozawa
;
N. Sato
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Plasmas;
Plastics;
Atomic measurements;
Dielectrics;
Annealing;
Nitrogen;
Plasma measurements;
51.
Materials Informatics for Process and Material Co-optimization
机译:
用于过程和材料协同优化的材料信息学
作者:
Fumiaki Tanaka
;
Hiroshi Sato
;
Naoki Yoshii
;
Hidefumi Matsui
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Etching;
Predictive models;
High-k dielectric materials;
Bayes methods;
Optimization;
Hafnium compounds;
Films;
52.
Study on Mechanisms of SiO
2
-CMP
机译:
SiO
2 inf> -CMP的机理研究
作者:
Shota Suzuki
;
Tomohiko Akatsuka
;
Akira Endou
;
Kazumi Sugai
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Abrasives;
Force;
Adhesives;
Slurries;
Electrostatics;
Atmospheric measurements;
Particle measurements;
53.
Inhibitation of substrate heating in a Minimal Multi-Target Helicon sputtering tool
机译:
在最小的多目标螺旋溅射工具中抑制基板加热
作者:
Taichi Saito
;
Kazunori Takahashi
;
Akira Ando
;
Shiro Hara
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Substrates;
Plasma temperature;
Sputtering;
Temperature measurement;
Tools;
Magnetic separation;
54.
Characterization of Self-Contamination from PVA Roll Brush with Atomic Force Microscopy and Fluorescent Microscopy
机译:
用原子力显微镜和荧光显微镜表征PVA辊刷的自污染
作者:
Shohei Shima
;
Satomi Hamada
;
Chikako Takatoh
;
Yutaka Wada
;
Akira Fukunaga
;
Hiroshi Sobukawa
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Brushes;
Surface topography;
Surface contamination;
Fluorescence;
Force;
55.
Inline scratch defect detection at post CMP step in FinFET device processing
机译:
FinFET器件处理中CMP后的步骤中的在线划痕缺陷检测
作者:
Mohammed Imrul Hossain
;
Sean Le
;
Dale R Sheu
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Inspection;
Tools;
FinFETs;
Metals;
Optical imaging;
Optical device fabrication;
Optical reflection;
56.
A CNN-based Transfer Learning Method for Defect Classification in Semiconductor Manufacturing
机译:
基于CNN的半导体制造缺陷分类转移学习方法
作者:
Kazunori Imoto
;
Tomohiro Nakai
;
Tsukasa Ike
;
Kosuke Haruki
;
Yoshiyuki Sato
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Training;
Manuals;
Inspection;
Deep learning;
Task analysis;
Monitoring;
Manufacturing;
57.
Using Full Trace Analytics to Simplify Root Cause Analysis
机译:
使用完全跟踪分析简化根本原因分析
作者:
Mark Yelverton
;
Tom Ho
;
Joe Lee
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Maintenance engineering;
Software;
Manufacturing processes;
Computer aided software engineering;
Tools;
Plasmas;
58.
Control rule of metrology tool alignment for semiconductor cross FABs
机译:
半导体交叉FAB的计量工具对准控制规则
作者:
Tang-Chi Wang
;
Ya-Chuan Chan
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Production facilities;
Semiconductor device measurement;
Time measurement;
Monitoring;
Position measurement;
Next generation networking;
59.
Unveil the Black Box for Performance Efficiency of OEE for Semiconductor Wafer Fabrication
机译:
揭开用于半导体晶圆制造的OEE性能效率的黑匣子
作者:
Chih-Min Yu
;
Chung-Jen Kuo
;
Chih-Lin Chiu
;
Wei-Chin Wen
;
Minghua Zhang
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Tools;
Artificial neural networks;
Data mining;
Productivity;
60.
Approaches to Facility Equipment and Production Tools for Energy Saving Activities
机译:
节能活动的设备设备和生产工具的方法
作者:
Shunsuke Kuroki
;
Masayoshi Izuchi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Energy consumption;
Tools;
Production;
Energy measurement;
Pumps;
Heat recovery;
Waste heat;
61.
Design of underfill materials for the latest package
机译:
最新包装的底部填充材料设计
作者:
Osamu Suzuki
;
Toshiaki Enomoto
;
Kiyoshi Kotaka
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Stress;
Liquids;
62.
Real-time Allocation of Multi-Type Production Resource with Due Date grouping for MTO Manufacturing
机译:
MTO制造的带有到期日期分组的多类型生产资源的实时分配
作者:
Motoharu TANAKA
;
Sumika ARIMA
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Resource management;
Dispatching;
Delays;
Production;
Optimization;
Loading;
Manufacturing;
63.
Optimization of Multi-type Resource Allocation for MTO-MTS mixed production
机译:
MTO-MTS混合生产的多类型资源分配的优化
作者:
Hiroyuki MOTOMIYA
;
Sumika ARIMA
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Loading;
Load modeling;
Resource management;
Computational modeling;
Linear programming;
Fixtures;
64.
Product mix optimization under required cycle time for semiconductor wafer fabrication
机译:
在半导体晶圆制造所需的周期时间内优化产品组合
作者:
Chih-Min Yu
;
Chung-Jen Kuo
;
Chih-Lin Chiu
;
Wei-Chin Wen
;
Minghua Zhang
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Genetic algorithms;
Tools;
Optimization;
Artificial neural networks;
Linear programming;
Production;
65.
Predictive process control for change in chemical dry etching equipment condition
机译:
化学干蚀刻设备状况变化的预测过程控制
作者:
Miyuki Maruta
;
Yasuhisa Oomuro
;
Kazutaka Nagashima
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Predictive models;
Monitoring;
Data models;
Etching;
Process control;
Manufacturing;
Electron tubes;
66.
Process Control Technique to Reduce Wafer Warpage for Trench Field Plate Power MOSFET
机译:
减少沟槽场板功率MOSFET晶圆翘曲的过程控制技术
作者:
Hiroaki Kato
;
Kenya Kobayashi
;
Toshifumi Nishiguchi
;
Saya Shimomura
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Stress;
Semiconductor device modeling;
Logic gates;
Silicon;
Oxidation;
MOSFET;
Process control;
67.
Machine Learning Approaches for Process Optimization
机译:
用于过程优化的机器学习方法
作者:
Yusuke Suzuki
;
Shinya Iwashita
;
Toshiki Sato
;
Hitoshi Yonemichi
;
Hironori Moki
;
Tsuyoshi Moriya
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Plasmas;
Stress;
Optimization;
Etching;
Tuning;
Machine learning;
Manufacturing processes;
68.
An Advanced Fault Detection Method for Post-CMP Brush Scrubbers
机译:
CMP后刷式除尘器的高级故障检测方法
作者:
Yohei Hamaguchi
;
Shin Aoyama
;
Tetsuya Tayama
;
Tsuyoshi Miyatake
;
Hidehiko Kawaguchi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Brushes;
Materials handling;
Torque;
Torque measurement;
Friction;
Mathematical model;
Semiconductor device measurement;
69.
Advanced Process Control Using Virtual Metrology to Cope with Etcher Condition Change
机译:
使用虚拟计量技术应对蚀刻条件变化的高级过程控制
作者:
Shota Umeda
;
Keita Nogi
;
Daisuke Shiraishi
;
Akira Kagoshima
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Data models;
Semiconductor device modeling;
Predictive models;
Correlation;
Metrology;
Sensors;
Plasmas;
70.
Anomaly Detection for Semiconductor Tools Using Stacked Autoencoder Learning
机译:
使用堆叠式自动编码器学习的半导体工具异常检测
作者:
Da-Yin Liao
;
Chieh-Yu Chen
;
Wen-Pao Tsai
;
Hsuan-Tseng Chen
;
Yao-Tsu Wu
;
Shi-Chung Chang
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Anomaly detection;
Tools;
Training;
Time-domain analysis;
Trajectory;
Time-frequency analysis;
71.
Real-time control of a wafer temperature for uniform plasma process
机译:
实时控制晶圆温度以实现均匀的等离子工艺
作者:
T. Tsutsumi
;
Y. Fuknaga
;
K. Ishikawa
;
H. Kondo
;
M. Sekine
;
M. Hori
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Plasma temperature;
Temperature measurement;
Heating systems;
Process control;
Silicon;
72.
Real-time Etch Control to Reduce First Wafer Effect in SF
6
/O
2
/Ar Plasma
机译:
实时蚀刻控制可降低SF
6 inf> / O
2 inf> / Ar等离子体中的第一晶圆效应
作者:
Sangwon Ryu
;
Yunchang Jang
;
Ji-Won Kwon
;
Damdae Park
;
JongMin Lee
;
Gon-Ho Kim
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Fluorine;
Plasmas;
Silicon;
Fluid flow;
Etching;
Cleaning;
Process control;
73.
Smart Sampling Methodology for Yield Defect Inspection in a 200mm Foundry Wafer Fab
机译:
用于200mm晶圆代工厂的良率缺陷检测的智能采样方法
作者:
Ang Kian Huat
;
Jonathan Yap
;
Ning Ning
;
Tan Siew Fen
;
Shakar Govindasamy Mani
;
Myla Terredano
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Tools;
Monitoring;
Metals;
Inspection;
Artificial intelligence;
Systematics;
74.
An Accurate Method for Determining Pattern Collapse Occurrence for Nano-Structures
机译:
确定纳米结构图案塌落发生率的准确方法
作者:
H. Marumoto
;
M. Nakamori
;
H. Kawano
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Silicon;
Mathematical model;
Liquids;
Surface tension;
Surface treatment;
Force;
Young's modulus;
75.
Applying Machine Learning for COA data analytics of raw materials on Semiconductor Manufacturing
机译:
将机器学习应用于半导体制造上原材料的COA数据分析
作者:
Chien Hui Leu
;
Demeter Chen
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Raw materials;
Machine learning;
Quality control;
Clustering algorithms;
Silicon;
Manufacturing;
Decision trees;
76.
Development of extreme microanalysis technology for metallic impurity on a silicon wafer surface
机译:
硅晶片表面金属杂质极限微分析技术的发展
作者:
Syuhei Yonezawa
;
Kazuya Dobashi
;
Shigeyuki
;
Iwai
;
Tatsuya Ichinose
;
Takashi Sakaguchi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Impurities;
Silicon;
Sensitivity;
Signal to noise ratio;
Ions;
Plasmas;
Contamination;
77.
Realization of “skeleton wafer” testing for electrical failure analysis
机译:
实现“骨架晶片”测试以进行电气故障分析
作者:
Hiroshi Yanagita
;
Akihito Jingu
;
Shinobu Okanishi
;
Satoshi Tanaka
;
Toru Koyama
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Skeleton;
Temperature measurement;
Semiconductor device measurement;
Failure analysis;
Manufacturing;
Yield estimation;
78.
Trailer based rail monitoring in overhead hoist transport systems
机译:
架空葫芦运输系统中基于拖车的铁路监控
作者:
Armin Siegel
;
Artem Zhakov
;
Hailong Zhu
;
Thorsten Schmidt
;
Stephan Hummel
;
Lars Fienhold
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Rails;
Sensors;
Semiconductor device measurement;
Condition monitoring;
Communication cables;
Position measurement;
79.
Advanced Wafer Container Contamination Control Methods and Strategies in Power Device Manufacturing
机译:
功率器件制造中先进的晶圆容器污染控制方法和策略
作者:
Markus Pfeffer
;
C. Zaengle
;
A.J. Bauer
;
G. Schneider
;
P. Franze
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Contamination;
Containers;
Integrated circuits;
Tools;
Cleaning;
Electron tubes;
80.
Real Time Measurement of Exact Size and Refractive Index of Particles in Liquid by Flow Particle Tracking Method
机译:
流动颗粒跟踪法实时测量液体中颗粒的精确尺寸和折射率
作者:
Takuya Tabuchi
;
Kazuna Bando
;
Sota Kondo
;
Hiroshi Tomita
;
Eishi Shiobara
;
Hidekazu Hayashi
;
Haruhisa Kato
;
Yusuke Matsuura
;
Ayako Nakamura
;
Kaoru Kondo
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Atmospheric measurements;
Particle measurements;
Refractive index;
Pollution measurement;
Size measurement;
Light scattering;
Semiconductor device measurement;
81.
The electrical effect on Schottky barrier diodes of emitted hydrogen from dielectric films
机译:
电介质膜发出的氢对肖特基势垒二极管的电效应
作者:
Tatsuya Shiraishi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Hydrogen;
Dielectric films;
Silicon;
Plasma temperature;
Metals;
82.
Equipment Comparison Analysis using ANOVA of FDC Statistics
机译:
使用FDC统计数据的方差分析进行设备比较分析
作者:
Hidetoshi Shinozaki
;
Yoshiyuki Nakao
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Sensors;
Market research;
Cleaning;
Resistance heating;
Analysis of variance;
Process control;
83.
Optimization of polishing conditions of rectangular substrate
机译:
矩形基板抛光条件的优化
作者:
Akira Ozeki
;
Matsunori Mori
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Substrates;
Finite element analysis;
Glass;
Oscillators;
Numerical simulation;
Mathematical model;
Kinematics;
84.
Logistics Management Innovation, RFID Application on Intelligent Management of Valuable Assets
机译:
物流管理创新,RFID在贵重资产智能管理中的应用
作者:
Yong Ching Lin
;
Kai Lun Lin
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Radiofrequency identification;
Logistics;
Manuals;
Manufacturing;
Maintenance engineering;
Production facilities;
Monitoring;
85.
Virtual Metrology Model Robustness Against Chamber Condition Variation by Using Deep Learning
机译:
利用深度学习应对腔室条件变化的虚拟计量模型鲁棒性
作者:
Takuro Tsutsui
;
Takahito Matsuzawa
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Semiconductor device modeling;
Feature extraction;
Training;
Numerical models;
Metrology;
Data models;
Deep learning;
86.
Super-multipoint thickness measurement technology using optical macro inspection system
机译:
使用光学宏检测系统的超多点厚度测量技术
作者:
Takayuki Hamada
;
Kuniharu Nagashima
;
Naoki Kanda
;
Nao Sato
;
Kuniaki Takeda
;
Junya Kawano
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Thickness measurement;
Optical variables measurement;
Inspection;
Optical films;
Adaptive optics;
Interpolation;
Optical imaging;
87.
Resist coating and developing process technology toward EUV manufacturing sub 7nm node
机译:
抵制EUV制造7nm以下节点的涂层和开发工艺技术
作者:
Yuya Kamei
;
Takahiro Shiozawa
;
Shinichiro Kawakami
;
Hideo Shite
;
Hiroshi Ichinomiya
;
Yusaku Hashimoto
;
Masashi Enomoto
;
Kathleen Nafus
;
Akihiko Sonoda
;
Marc Demand
;
Philippe Foubert
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Filtration;
Resists;
Optimization;
Productivity;
Ultraviolet sources;
Extreme ultraviolet lithography;
88.
Failure Mechanism of High Via Resistance Induced by Fluorine and Moisture
机译:
氟和水分引起的高通孔电阻失效机理
作者:
Tong Tze Kang
;
Tan Tong Hong
;
Huong Chung Yew
;
Oh Sang Hun
;
You Hyuk Joon
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Corrosion;
Resistance;
Fluorine;
Tools;
Phase change materials;
Compounds;
89.
Equipment Productivity Variability: throughput impact analysis
机译:
设备生产率差异:吞吐量影响分析
作者:
Marco Velasco PINNA
;
Giuseppe FAZIO
;
Michele MONTAGNER
;
Emmanuel TRONCET
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Productivity;
Monitoring;
Tools;
Throughput;
Safety;
Market research;
90.
Development of Half-inch FOWLP Process Line utilizing Minimal Fab
机译:
利用最小的晶圆厂开发半英寸FOWLP生产线
作者:
Kenji Miyake
;
Masanori Iwata
;
Toru Mannami
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Prototypes;
Electrical resistance measurement;
Production facilities;
Mass production;
Testing;
Resistance;
91.
Establishment of An Advanced Diagnostic Technology by Conductivity
机译:
通过电导率建立先进的诊断技术
作者:
Akira Nakahira
;
Youske Inoue
;
Kazuyuki Fujii
;
Kenji Shirakawa
;
Hidehiko Kawaguchi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Discharges (electric);
Conductivity;
Radio frequency;
Insulation;
Voltage measurement;
Copper;
Fingers;
92.
Control rule of metrology tool alignment for semiconductor cross FABs
机译:
半导体交叉FAB的计量工具对准控制规则
作者:
Tang-Chi Wang
;
Ya-Chuan Chan
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Production facilities;
Semiconductor device measurement;
Time measurement;
Monitoring;
Position measurement;
Next generation networking;
93.
A CNN-based Transfer Learning Method for Defect Classification in Semiconductor Manufacturing
机译:
一种基于CNN的传输学习方法,用于半导体制造中的缺陷分类
作者:
Kazunori Imoto
;
Tomohiro Nakai
;
Tsukasa Ike
;
Kosuke Haruki
;
Yoshiyuki Sato
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Training;
Manuals;
Inspection;
Deep learning;
Task analysis;
Monitoring;
Manufacturing;
94.
Secondary electron spectroscopy for imaging semiconductor materials
机译:
用于成像半导体材料的二次电子光谱
作者:
Toshihide Agemura
;
Takashi Sekiguchi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Detectors;
Scanning electron microscopy;
Brightness;
Semiconductor materials;
P-n junctions;
Electric potential;
Spectroscopy;
95.
Using Full Trace Analytics to Simplify Root Cause Analysis
机译:
使用完整的跟踪分析来简化根原因分析
作者:
Mark Yelverton
;
Tom Ho
;
Joe Lee
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Maintenance engineering;
Software;
Manufacturing processes;
Computer aided software engineering;
Tools;
Plasmas;
96.
Outlier Screening for Advanced Automotive Applications
机译:
高级汽车应用的异常值筛选
作者:
Cinti Chen
;
Po-Hsien Chang
;
Xiao-Yu Li
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Anomaly detection;
Temperature measurement;
Databases;
Heuristic algorithms;
Monitoring;
Reliability;
Automotive engineering;
97.
Materials Informatics for Process and Material Co-optimization
机译:
用于过程和材料共同优化的材料信息学
作者:
Fumiaki Tanaka
;
Hiroshi Sato
;
Naoki Yoshii
;
Hidefumi Matsui
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Etching;
Predictive models;
High-k dielectric materials;
Bayes methods;
Optimization;
Hafnium compounds;
Films;
98.
Novel CMP technology for removal rate control of SiN
机译:
新型CMP技术,用于犯下仙
作者:
Toshio Shinoda
;
Akira Endou
;
Kazumi Sugai
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Silicon compounds;
Additives;
Chemicals;
Silicon;
Substrates;
Computational modeling;
99.
Gas Phase Pore Stuffing for the protection of organo-silicate glass dielectric materials
机译:
气相孔填充用于保护有机硅酸盐玻璃介质材料
作者:
M. Fujikawa
;
J. -F. de Marneffe
;
R. Chanson
;
K.Babaei Gavan
;
A. Rezvanov
;
F. Lazzarino
;
Z. Tokei
;
T. Yamaguchi
;
S. Nozawa
;
N. Sato
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Plasmas;
Plastics;
Atomic measurements;
Dielectrics;
Annealing;
Nitrogen;
Plasma measurements;
100.
Equipment Comparison Analysis using ANOVA of FDC Statistics
机译:
FDC统计数据的设备比较分析
作者:
Hidetoshi Shinozaki
;
Yoshiyuki Nakao
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2018年
关键词:
Sensors;
Market research;
Cleaning;
Resistance heating;
Analysis of variance;
Process control;
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