层介质膜属于《中国图书分类法》中的五级类目,该分类相关的期刊文献有88篇,会议文献有22篇,学位文献有10篇等,层介质膜的主要作者有李戈扬、林永昌、王德苗,层介质膜的主要机构有上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院上海冶金研究所等。
统计的文献类型来源于 期刊论文、 学位论文、 会议论文
1.[期刊]
摘要: 采用磁控溅射和金属剥离工艺制备结构为P-Si/HfO_(2)/Ti和P-Si/HfO_(2)/Al_(2)O_(3)/Ti的阻变存储器,两器件均表现出双极性电...
2.[期刊]
摘要: 基于麦克斯韦方程组及热力学理论,分析了脉冲强激光在不同入射角、不同偏振态下辐照10.6μm窄带滤光片的热力效应,研究了不同入射角及偏振态下的温度场、应力场,计...
3.[期刊]
摘要: 黄光激光器作为一种接近人眼敏感区域的激光器在诸多领域都发挥着重要的作用,而谐振腔又是激光器中重要组成部分.本文以Nd∶YVO4(c-cut)晶体为基底,利用真...
4.[期刊]
摘要: 采用射频反应磁控溅射方法,通过旋转转盘,使衬底与靶材水平偏离一定角度,制备了C轴择优取向的倾斜AlN薄膜。用XRD分析了不同偏转角度下制备的AlN薄膜的择优取...
5.[期刊]
摘要: 为防止底板拖模因受力不均造成底板线性偏差及平整度高低起伏等问题,依靠固定在两侧边墙的10#槽钢可有效控制底板的整体线性及平整度.在施工过程中,采用拖模台车进行...
6.[期刊]
摘要: 为达到空间滤波的目的,元件必须具有对角度高反和高透的特性,因为滤波是通过反射元件边缘的高反和高透快速切换来实现的.多层介质膜的反射带边缘具有高反和高透的特性并...
7.[期刊]
摘要: RF磁控溅射是目前应用最广泛的一种溅射沉积方法.由于陶瓷溅射的现象相当复杂,目前尚无完整的溅射理论可以用来分析溅射现象,所以通常通过实验来确定溅射过程中的影响...
8.[期刊]
摘要: 利用模板技术制备了聚二甲基硅氧烷光盘沟槽微结构薄膜,采用电子显微镜对材料进行表征并对薄膜的润湿性各向异性进行了研究.结果表明:刻录可以使光盘沟槽加深,利用聚二...
9.[期刊]
摘要: Lithography is a very important step in fabrication of semiconductor devices. I...
10.[期刊]
摘要: 采用射频磁控反应溅射,利用两步气压法在Pt电极上制备C轴倾斜的AlN压电薄膜.用X射线衍射仪(XRD)分析两步气压下制备的AlN薄膜的择优取向,用扫描电镜(S...
11.[期刊]
摘要: 液滴法[1]是制作薄膜样品的最简单方法,本文介绍了使用该方法制作薄膜样品的具体步骤.由于样品在自然蒸发过程中具有结晶效应,使得最终形成的样品极不均匀.如果使用...
12.[期刊]
摘要: 采用金属卤化物作发光物质,将发光管设计成球泡形状,给出了金属卤化物发光管的结构及制作工艺;将光学界面设计为椭球形状,采用3个不同中心波长的λ/4膜堆叠加而成的...
13.[期刊]
摘要: 从光子带隙形成的机理出发,用带边分析法计算了某一维光子晶体异质结结构的允带和禁带.结果表明基于这一结构的滤波器在可见和近红外区的交界处有较宽的通带,通带两侧有...
14.[期刊]
摘要: 高次模薄膜体声波谐振器(HBAR)具有简单的半导体工艺特性和良好的高频特性能,在分析HBAR结构和工作模式的基础上,用MBVD模型在ADS上仿真设计了2GHz...
15.[期刊]
摘要: 由于AC PDP介质保护膜与放电气体直接接触,因而对PDP的工作特性如T作寿命、发光效率、发光亮度、着火电压及放电时间延迟等有重要影响,其性能的提升对提高AC...
16.[期刊]
摘要: In order to study the properties of(Zn0.8Mg0.2)2Si04-Zr02-Ti02( ZMSZT) ceramics...
17.[期刊]
摘要: 以SF6/O2为刻蚀气体, 采用电子回旋共振等离子体反应离子刻蚀(ECR-RIE)方法进行了氟化非晶碳(a-C:F)低介电常数薄膜的等离子体刻蚀技术研究,结果...
18.[期刊]
射频磁控共溅射高温NH3退火制备CuO/SiO2复合薄膜的微观结构
摘要: 采用射频磁控共溅射法在硅衬底上沉积Cu/SiO2复合薄膜,然后在NH3保护下高温退火,再于空气中自然冷却氧化,形成XuO结构,对其微观结构进行分析.随着退火温...
19.[期刊]
摘要: 介绍磁性多层膜中自旋极化输运和巨磁电阻效应,简述自旋阀巨磁电阻与多层膜巨磁电阻在材料组成结构和工作原理方面的区别,利用和改造现有的高校物理实验室中的实验仪器并...
20.[期刊]
摘要: The multiple layer films with La2O3/LaAlO3/Si structure were fabricated in the ...
1.[会议]
摘要: 由于AC PDP介质保护膜与放电气体直接接触,因而对PDP的工作特性如T作寿命、发光效率、发光亮度、着火电压及放电时间延迟等有重要影响,其性能的提升对提高AC...
2.[会议]
摘要: 电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECRPlasmaCVD)法淀积介质膜技术是实现性能优良的光电子器件光学膜和电学膜的重要技术手段之一,该文阐述了该技术的原理...
3.[会议]
摘要:
4.[会议]
摘要:
5.[会议]
摘要:
6.[会议]
摘要:
7.[会议]
摘要: 本文介绍原子层沉积(ALD)技术的发展背景、特点和原理,阐述发展高k介质的必要性.通过介绍高k介质的特点及其对沉积工艺的要求,说明ALD技术适合于沉积高k介质...
8.[会议]
摘要: 利用介质膜反射镜,在光泵浦有机小分子薄膜微腔的研究中,观察到了谱线窄化、峰值强度增强、方向性集中于腔轴、控制发射波长和荧光寿命的缩短等一系列腔效应.其中用软膜...
9.[会议]
摘要: 文中在分光计实验仪基础上构建Kretschman棱镜型表面等离子体共振传感器,以Ag/SiO2双层膜系为敏感元件研究了其对酒精水溶液折射率变化的敏感特性。实验...
10.[会议]
摘要: 从理论上计算出GaAs/Si异质结在Si的(211)面上界面态密度最小,故GaAs在Si(211)面上生长晶格失配度较小.同时,为了缓解晶格失配,我们采用生长...
11.[会议]
摘要: 从激光晶体低增益谱线的运转机理出发,对LD泵浦Nd:YAG,LBO腔内倍频556nm激光器所使用的光学薄膜进行了研制.在激光反射镜的设计上,为保证基频光111...
12.[会议]
摘要: 本文用掠入射X射线衍射对磁控溅射制取的等原子比Ni/Ti周期性多层膜晶化热处理后的相深度分布进行了分析.Ni-Ti形状记忆薄膜在深度方向的相分布是不均匀的,表...
13.[会议]
Ni70Co30/Cu磁性金属多层膜界面元素分布的X射线异常散射研究
摘要: 本文应用X射线异常散射技术研究了[Ni70Co30(25(A))/Cu(20(A))]20多层膜的界面结构,结果表明,退火前后Cu/Ni70Co30和Ni70...
14.[会议]
摘要: 报道由短链DNA和磷脂分子在水溶液中形成的复合物的小角散射研究结果.水溶液中,DNA分子和阳性磷脂分子自发组装成有序的复合多层膜结构:脂双层相互平行,DNA夹...
15.[会议]
摘要: 本文用直流磁控溅射的方法制备了3个系列含有不同厚度的Co/W的双层膜.用铁磁共振和振动样品磁强计测量了Co/W双层膜的磁学性质.用镜面X射线反射和高角X射线衍...
16.[会议]
摘要: 丙甲菌素是富含α-氨基异丁酸的膜活性肽,能自发插入到脂双层中并相互聚集形成通道结构,对真菌以及革兰氏阳性菌都有抗菌作用.用丙甲菌素与二油酰磷脂酰胆碱的混合溶液...
17.[会议]
YBa2Cu3O7-δ薄膜厚度在多层异质结构(Ag/Ba0.1Sr0.9TiO3/YBa2Cu3O7-δ/LaAlO3)中对Ba0.1Sr0.9TiO3介电性能的影响研究
摘要: 本文采用1.2°斜切LaAlO3基片,以脉冲激光沉积法(PLD)制备出性能较好的Ba0.1Sr0.9TiO3/YBa2Cu3O7-δ(BST/YBCO)异质薄...
18.[会议]
有机/无机层状类钙钛矿(C<,12>H<,25>NH<,3>)<,2>PbI<,4>晶体及薄膜的制备与结构表征
摘要: 介绍了有机/无机类钙钛矿(C<,12>H<,25>NH<,3>)<,2>PbI<,4>的晶体和薄膜的制备,并采用了XRD、SEM、AFM和PL表征材料的结构、...
19.[会议]
摘要: 本文采用Pechini法制备Ca(Mg(1/3)Nb(2/3))O3(CMN)及CaTiO3(CT)前驱体溶液,用液相旋涂技术按照一定的排布方式制备了总厚度相...
20.[会议]
摘要: 本文采用射频反应磁控溅射制备了高C轴取向的AlN薄膜.在分析Berg迟滞模型的基础上,提出并实现了一种以氮气流量控制反应进程、以阴极电压标识反应进程的高速沉积...
1.[学位]
摘要: 本论文第一部分采用控电位电沉积法,在n-Si(111)晶面上制备了NiFe合金薄膜,并确定了获得Ni80Fe20合金的工艺条件以及对应的电流效率。由SEM表面...
2.[学位]
摘要: 本文讨论的是用相关势近似的有效介质理论(EMT),用此方法可以很好的计算出由铁氧体柱构成的各向异性介质的有效介电常数εeff及有效磁导率μeff,从而进一步了...
3.[学位]
摘要: 随着半导体技术的日新月异,MOSFET的特征尺寸不断缩小,栅介质等效氧化物层厚度已缩小至纳米量级,这时电子的直接隧穿效应加剧,严重影响器件的稳定性和可靠性,因...
4.[学位]
金属有机沉积法制备Y0.2Ce0.8O2/La2Zr2O7缓冲层薄膜的研究
摘要: 第二代高温超导带材又称为YBa2Cu3O7-δ(YBCO)涂层导体,其因具有优异的电学性能而受到人们的广泛关注。YBCO涂层导体由金属基底,缓冲层及YBCO超...
5.[学位]
摘要: 随着超大规模集成电路(ULSI)技术的快速发展,传统使用的SiO2栅介质层已将达到其应用的物理极限,寻找新的栅介质材料来代替传统使用的SiO2已成为当前研究的...
6.[学位]
摘要: 在信息时代中,数据存储是信息处理的重要一环,而磁记录存储又是数据存储的最主要的方式。交换偏置现象是当今硬盘磁头和磁随机存储器(MRAM)基本构件的物理基础之一...