机译:传输通道金属氧化物在场效应晶体管的参数中的实质性作用
Grad. School of Science and Engineering, Kansai University, 3-3-35 Yamate-cho, Suita, Osaka 5648680, Japan;
机译:反转层沟道金属氧化物半导体场效应晶体管中Hooge参数的可能统一模型
机译:自对准倒置沟道ln_(0.53)Ga_(0.47)作为金属氧化物半导体场效应晶体管,以原位沉积AI2O_3 / Y2O_3作为栅极电介质
机译:使用分子束外延-Al_2O_3 / Ga_2O_3(Gd_2O_3)作为栅极电介质的自对准反型沟道In_(0.53)Ga_(0.47)As金属氧化物半导体场效应晶体管的dc和rf特性
机译:埋沟型金属氧化物半导体场效应晶体管中Hooge参数的现象学反思
机译:Si纳米线和基于二维MoS2的场效应晶体管中的电子传输和低频噪声表征。
机译:用于金属氧化物半导体电容器和场效应晶体管的氢化金刚石上高k氧化物概述
机译:二维Si累积通道中的电子旋转和动量寿命:在室温下演示肖特基 - 屏障旋转金属氧化物 - 半导体场效应晶体管