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A 5-MHz, 3.6-mW, 1.4-V SRAM with nonboosted, vertical bipolarbit-line contact memory cell

机译:5MHz,3.6mW,1.4V SRAM,具有非增强型垂直双极位线接触式存储单元

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摘要

This paper describes a 256-Kbit SRAM fabricated using a novelnbipolar bit-line contact memory cell having a large static noise margin.nVertical PNP transistors are introduced at the bit-line contact area,nwhich realizes lower operational voltage and a memory-cell areanequivalent to a 4-NMOS-type cell. The minimum operating voltage is 1.4 Vnwithout using a boosting technique, and the access time is 60 ns at a Vncc of 1.8 V and room temperature. The power dissipation isn3.6 mW at a Vcc of 1.4 V. The operating Vcc rangenis 1.4-4.0 V
机译:本文描述了一种使用具有较大静态噪声容限的新型双极位线接触式存储单元制造的256 Kbit SRAM.n在位线接触区域引入了垂直PNP晶体管,这实现了更低的工作电压,并且存储单元等效于4-NMOS型单元。在不使用升压技术的情况下,最小工作电压为1.4 Vn,在1.8 V的Vncc和室温下的访问时间为60 ns。在1.4 V Vcc时功耗为3.6 mW。工作Vcc范围为1.4-4.0 V

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