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埋置位线非易失浮动栅存储单元、其阵列及其制造方法

摘要

埋置位线读出/程序非易失存储单元及阵列能够获得高密度。单元和阵列制作在具有多个间隔开的沟槽的半导体衬底上,沟槽间有平面表面。每个存储单元具有用于在其上存储电荷的浮动栅。单元具有间隔开的源区/漏区,它们之间有沟道。源区/漏区之一位于沟槽的底壁内。浮动栅在沟槽内,在沟道的第一部分上面,与沟槽的侧壁间隔开。栅电极控制着沟道的第二部分的导通,第二部分在衬底的平面表面上。另一源区/漏区在衬底平面表面上的衬底中。可独立控的控制栅也在沟槽内,它与浮动栅绝缘并与其容性耦合。源、漏和控制栅基本上相互平行,而栅电极基本上垂直于源/漏/控制栅。

著录项

  • 公开/公告号CN1691336A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2005-11-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 硅存储技术公司;

    申请/专利号CN200510055090.5

  • 发明设计人 D·李;B·陈;S·基亚尼安;

    申请日2005-03-08

  • 分类号H01L27/105;H01L29/788;G11C16/04;H01L21/8247;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人杨凯

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-17 16:42:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-05-06

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2007-02-28

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-11-02

    公开

    公开

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