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公开/公告号CN1691336A
专利类型发明专利
公开/公告日2005-11-02
原文格式PDF
申请/专利权人 硅存储技术公司;
申请/专利号CN200510055090.5
发明设计人 D·李;B·陈;S·基亚尼安;
申请日2005-03-08
分类号H01L27/105;H01L29/788;G11C16/04;H01L21/8247;
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人杨凯
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-12-17 16:42:25
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-05-06
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-02-28
实质审查的生效
2005-11-02
公开
机译: 具有浮动栅,控制栅,选择栅和在浮动栅上悬空擦除栅的改进型分裂栅型非易失性闪存存储单元和阵列及其制造方法
机译: 用于形成具有掩埋位线和凸起源极线的浮栅存储单元的半导体存储阵列的自对准方法以及通过该方法制造的存储阵列
机译: 非-易失性存储单元阵列
机译:具有固定位线参考电压方案和数据保护电路的0.4μm3.3V 1T1C 4Mb非易失铁电RAM
机译:具有固定位线参考电压方案的0.4- / spl mu / m 3.3V 1T1C 4-Mb非易失铁电RAM和数据保护电路
机译:具有易失性和非易失性存储功能的单个存储单元的写入方法比较
机译:具有非驱动板和选定驱动位线方案的高密度,低功耗非易失FeRAM
机译:使用非自对准栅工艺的替代栅叠层的制造和器件表征。
机译:在单个制造步骤中生成自对准SiO2 / Ge / SiO2 / SiGe栅堆叠异质结构的独特方法
机译:垂直集成的动态RAM单元:具有浮动传输层的埋入式位线存储单元
机译:sNOs非易失晶体管的辐射响应