机译:通过无参掠入射X射线荧光分析对Cu(In,Ga)Se_2薄膜进行元素深度分析
Helmholtz-Zentrum Berlin fuer Materialien und Energie GmbH, Hahn-Meitner-Platz 1, Institut Technologie, 14109 Berlin, Germany Technische Universitat Berlin, Institut fuer Optik und Atomare Physik, Hardenbergstr. 36, 10623 Berlin, Germany;
rnPhysikalisch-Technische Bundesanstalt, Abbestr. 2-12, 10587 Berlin, Germany;
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rnTechnische Universitat Berlin, Institut fuer Optik und Atomare Physik, Hardenbergstr. 36, 10623 Berlin, Germany;
rnHelmholtz-Zentrum Berlin fuer Materialien und Energie GmbH, Hahn-Meitner-Platz 1, Institut Technologie, 14109 Berlin, Germany;
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thin film solar cell; Cu(In,Ga)Se_2; grazing incidence X-ray fluorescence; depth profiles; reference-free;
机译:X射线反射率透明导电氧化物薄膜的元素深度分析和放牧入射X射线荧光组合分析
机译:掠入射X射线荧光分析无损确定Cu(ln,Ga)SE〜2吸收膜中In和Ga深度分布
机译:纳米层和梯度系统的无参,深度依赖性表征,具有先进的掠入射X射线荧光分析
机译:掠入射X射线衍射对Cu(In,Ga)Se_2的深度剖析
机译:使用掠入射X射线衍射进行残余应力深度分析。
机译:联合评估掠入射X射线荧光和X射线反射率数据以改善超浅深度分布的轮廓
机译:通过X射线反射率透明导电氧化物薄膜的元素深度分析和放牧入射X射线荧光组合分析