机译:掠入射X射线荧光分析无损确定Cu(ln,Ga)SE〜2吸收膜中In和Ga深度分布
Helmholtz-Zentrum Berlin fur Materialien und Energie, Hahn-Meitner-Platz 1,14109 Berlin, Germany,Physikalisch-Technische Bundesansta.lt, Abbestr2-12,10587 Berlin, Germany;
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Physikalisch-Technische Bundesansta.lt, Abbestr2-12,10587 Berlin, Germany;
Institutfur Optik und Atomare Physik, Technische Universitdt Berlin, Hardenbergstr. 36,10623 Berlin, Germany;
Physikalisch-Technische Bundesansta.lt, Abbestr2-12,10587 Berlin, Germany;
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机译:通过无参掠入射X射线荧光分析对Cu(In,Ga)Se_2薄膜进行元素深度分析
机译:可追溯的定量拉曼显微镜和X射线荧光分析作为表征Cu(In,Ga)Se-2吸收剂薄膜的非破坏性方法
机译:应用趋肤深度理论的GIXRD方法确定Cu(In_(1-x)Ga_x)Se_2薄膜的深度剖面晶体取向
机译:光谱室温度通过Cu(In,Ga)Se_2薄膜通过建模和比较,与测定过量载体深度剖面的实验相比
机译:使用具有最大熵正则化的可变动能 - X射线光电子能谱的非破坏性深度分析
机译:掠入射小角X射线散射的聚合物膜深度剖析
机译:掠入射X射线荧光分析用于无损测定Cu In,Ga se2吸收膜中的In和Ga深度剖面