机译:准分子激光退火的非晶硅在超低氧浓度下制造的薄膜晶体管的特性
Jungwon Univ, Dept Renewable Energy, Goesan Gun 367805, Chungbuk, South Korea;
Inha Tech Coll, Dept Met & Mat Engn, Incheon 402752, South Korea;
Jungwon Univ, Dept Renewable Energy, Goesan Gun 367805, Chungbuk, South Korea;
Excimer laser annealing; Oxygen concentration; Polycrystalline silicon; Thin film transistor; Active matrix organic light emitting diode display;
机译:单和双(重叠)扫描区域中形成的多晶硅形态上受激准分子激光退火的薄膜晶体管的特性
机译:与氢化非晶硅薄膜晶体管相比,非晶$ hbox {InGaZnO} _ {4} $薄膜晶体管的双栅特性
机译:氧分压对热退火制备非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管电性能的影响
机译:使用暴露于臭氧退火并在高氧气压力下制造的非晶In-Ga-Zn-O薄膜晶体管的光辐照和施加电压历史传感器
机译:使用准分子激光加工制造的高性能薄膜晶体管。
机译:准分子激光晶体化的Si1-xGex薄膜晶体管的电学和结构特性
机译:氟注入和结晶非晶硅膜上制造的顶栅多晶硅薄膜晶体管的特性
机译:用准分子激光诱导侧向生长形成薄膜晶体管的晶硅岛。