非晶硅表面处理方法及准分子激光退火处理传送系统

摘要

一种非晶硅表面处理方法及准分子激光退火处理传送系统，非晶硅表面处理方法包括如下步骤：在真空腔室内，对含氧气体进行第一次电离操作，形成第一等离子体，采用所述第一等离子体对非晶硅层进行第一次干法刻蚀操作；其中，所述含氧气体为氧气、二氧化氮中的至少一种；在真空腔室内，对碳氟气体、氢气和氩气的混合气体进行第二次电离操作，形成第二等离子体，采用所述第二等离子体对经过第一次干法刻蚀操作处理后的所述非晶硅层进行第二次干法刻蚀操作。上述处理方法，第一等离子体中的活性氧分子对混合物中的有机物具有较好的清除作用，第二等离子体能够较好地去除混合物中的二氧化硅，能够减少非晶硅表面出现MURA，从而能够提高产品质量。