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机译:氮气流量对反应溅射纳米晶体-(Ti,Al)_x N_(1-x)/非晶-Si_y N_(1-y)的影响
Department of Materials Science and Engineering, National Cheng-Kung University, Tainan 701, Taiwan, Republic of China;
机译:反应直流磁控溅射制备TiN_x和Ti_(1-x)Al_xN薄膜的结构性能和电阻率:氮气流量的影响
机译:反应直流磁控溅射制备TiN x sub>和Ti 1-x sub> Al x sub> N薄膜的结构性能和电阻率:氮气流量的影响
机译:衬底偏压和氮气流量比对退火前后反应溅射ZrN_x薄膜表面形貌和结合态的影响
机译:(Al_xGa_(1-x))_(0.5)N_(0.5)定量分析中的离子产率,溅射速率和SIMS基质效应
机译:用于毫米波应用的硅锗虚拟衬底生长和硅(1-y)锗(y)/硅(1-x)锗(x)/硅(1-y)锗(y)HBT。
机译:通过磁控溅射中氮流量的氮气流量调节的Ti-Zr三元氮化物薄膜的结构组成和等离子体特性
机译:反应性直流溅射氧流速对Ti-6Al-4V合金Ti-O涂层的影响。