公开/公告号CN105698928B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-04-17
原文格式PDF
申请/专利权人 苏州宏策光电科技有限公司;
申请/专利号CN201610111137.3
申请日2016-02-29
分类号
代理机构北京华识知识产权代理有限公司;
代理人赵永强
地址 215400 江苏省苏州市太仓市浏河镇紫薇路1号
入库时间 2022-08-23 10:10:29
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-04-17
授权
授权
2016-07-20
实质审查的生效 IPC(主分类):G01J3/26 申请日:20160229
实质审查的生效
2016-06-22
公开
公开
机译: 极紫外曝光用掩模,极紫外曝光用掩模坯料,极紫外曝光用掩模的制造方式以及多层膜
机译: 通过ALD沉积Ti-Te膜的方法,以及包括Ti-TE阻挡膜和相变存储器件的多层相变结构,包括相同
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