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机译:电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积硅衬底上的SiN_x,SiO_2 / SiN_x和SiO_xN_y介电膜的电导瞬态比较分析
Departamento de Electricidad y Electronica, E.T.S.I. Telecomunicacion, Campus "Miguel Delibes", Universidad de Valladolid, Valladolid 47011, Spain;
silicon nitride; silicon oxynitrides; ECR-PECVD; MIS structures; interface states; insulator damage; DLTS; conductance transients;
机译:使用堆叠式等离子增强化学气相沉积SiO_2 / SiN_x栅极电介质增强多晶硅薄膜晶体管的稳定性
机译:直接等离子增强化学气相沉积SiN_x薄膜的化学计量和硅衬底表面粗糙度对表面钝化的影响
机译:光照对单晶硅表面钝化的影响,该单晶硅表面被沉积有等离子体增强化学气相沉积SiN_x的原子层沉积Al_2O_3钝化
机译:ECR-PECVD沉积SIN_X,SIO_2VSIN_X和SIO_XN_Y电介质膜的电导瞬态对比分析硅基板
机译:将等离子体增强化学气相沉积的氮化硅薄膜建模为有限的几何形状
机译:等离子体增强化学气相沉积中薄膜硅逐层生长的原因
机译:界面状态密度和电导瞬态三维分析在由电子 - 回旋共振等离子体增强化学蒸气沉积的SiOxnyHzFilms制造的金属绝缘体半导体电容器上的无序诱导的间隙状态