机译:界面状态密度和电导瞬态三维分析在由电子 - 回旋共振等离子体增强化学蒸气沉积的SiOxnyHzFilms制造的金属绝缘体半导体电容器上的无序诱导的间隙状态
机译:电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积硅衬底上的SiN_x,SiO_2 / SiN_x和SiO_xN_y介电膜的电导瞬态比较分析
机译:氮化物钝化使用大气金属有机化学气相沉积减少了原子层沉积的Al_2O_3 / GaAs(001)金属氧化物半导体电容器中的界面陷阱
机译:高位砷化镓金属绝缘体半导体电容器被非原位等离子体增强原子层沉积的AIN钝化,用于费米能级钉扎
机译:在金属 - 绝缘体 - 半导体结构上进行无序诱导间隙状态的电导瞬态三维分析
机译:晶格匹配的III-V / IV组半导体异质结构:金属有机化学气相沉积和远程等离子体增强化学气相沉积。
机译:在Nafion负载的电化学沉积钴纳米粒子上进行等离子体增强化学气相沉积产生的金属/碳杂化纳米结构
机译:高k GaAs金属绝缘体半导体电容器被非原位等离子体增强原子层沉积的AlN钝化以实现费米能级钉扎