机译:光照对单晶硅表面钝化的影响,该单晶硅表面被沉积有等离子体增强化学气相沉积SiN_x的原子层沉积Al_2O_3钝化
Natl Univ Singapore SERIS Singapore 117574 Singapore;
Natl Univ Singapore SERIS Singapore 117574 Singapore|Natl Univ Singapore Dept Elect & Comp Engn Singapore 117583 Singapore;
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机译:通过引入磷催化掺杂层,急剧降低了化学催化气相沉积SiN_x膜钝化的晶体硅的表面复合速度
机译:超薄原子层沉积的被SiN_x覆盖的Al_2O_3层的c-Si表面钝化的c-Si / Al_2O_3界面的性质
机译:等离子体增强化学气相沉积层钝化钝化的直拉硅制成的生命周期样品中的体积和表面相关降解
机译:PECVD Sin_X沉积的空间ALD沉积的Al_2O_3的热稳定性,用于钝化低和高掺杂的P型硅表面
机译:将等离子体增强化学气相沉积的氮化硅薄膜建模为有限的几何形状
机译:在Nafion负载的电化学沉积钴纳米粒子上进行等离子体增强化学气相沉积产生的金属/碳杂化纳米结构
机译:由由等离子体增强的化学气相沉积层堆叠钝化的寿命和表面相关的终身样品中的寿命样本中的寿命样本