机译:热退火对GaNAs缓冲层上InAs量子点光致发光特性的影响
Precision and Intelligence Laboratory, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8503, Japan;
Precision and Intelligence Laboratory, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8503, Japan;
机译:金属有机化学气相沉积法在GaNAs缓冲层上InAs量子点的光致发光特性
机译:热退火对具有优化间隔层厚度的垂直堆叠InAs / GaAs量子点的光致发光性能的影响
机译:热退火对GaAs缓冲层上生长的无盖InAs量子点的微观结构和光学性质的影响
机译:退火后对GaNAs缓冲层上InAs量子点发射特性的影响
机译:在2-D电场下探索InAs / GaAs量子点和量子点分子中的单孔状态
机译:温度对在图案化GaAs上生长的单个InAs量子点的光致发光特性的影响
机译:金属有机分子束外延生长在GaNAs应变补偿层中的InAs量子点的光致发光研究
机译:退火对Gaas基体中自组装Inas量子点和润湿层的影响