机译:热退火对GaAs缓冲层上生长的无盖InAs量子点的微观结构和光学性质的影响
Hanyang Univ, Adv Semicond Res Ctr, Div Elect & Comp Engn, Seoul 133791, South Korea;
nanostructures; crystal growth; transmission electron microscopy; optical properties; ENERGY-LEVELS; LUMINESCENCE; ISLANDS;
机译:快速热退火对被InAlAs / InGaAs层覆盖的自组装InAs / GaAs量子点的结构和光学性质的影响
机译:快速热退火对被InAlAs / InGaAs层覆盖的自组装InAs / GaAs量子点的结构和光学性质的影响
机译:快速热退火对InAlAs / InGaAs层覆盖的自组装InAs / GaAs量子点的结构和光学性质的影响
机译:在GaAs衬底上发射的INAS量子点的光学和结构性质,在GaAs底物上生长,在
机译:通过分子束外延生长的光学器件的自组装量子点的微观结构和光学性质。
机译:InGaAs交叉影线图案上生长和退火的InAs量子点的光学性质
机译:InGaAs交叉影线图案上生长和退火的InAs量子点的光学性质