机译:金属有机化学气相沉积法在GaNAs缓冲层上InAs量子点的光致发光特性
Microsystem Research Center, Precision and Intelligence Laboratory, Tokyo Institute of Technology, R2-39, 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8503, Japan;
quantum dot; MOCVD; InAs; GalnNAs; GaAs; semiconductor laser;
机译:金属有机化学气相沉积在GaNAs缓冲层上形成的InAs量子点
机译:金属有机化学气相沉积在GaP上的薄GaNP缓冲层上生长InAs量子点
机译:金属有机化学气相沉积生长具有GalnP盖层的InAs量子点的光致发光特性
机译:通过金属化学气相沉积在GANAS缓冲层上形成的INAS量子点
机译:铝砷化镓-砷化镓-砷化镓-砷化铟量子点通过低压金属有机化学气相沉积与量子阱异质结构激光器耦合。
机译:Inn量子点和纳米结构的金属化学化学气相沉积
机译:金属有机分子束外延生长在GaNAs应变补偿层中的InAs量子点的光致发光研究
机译:通过金属有机化学气相沉积在Gaassubstrates上生长的Inas(0.3)sb(0.7)层中载流子传输的详细分析