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机译:镁离子注入GaN及其相关器件退火工艺的改进
U.S. Naval Research Laboratory, Washington, DC, USA;
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Gallium nitride; Annealing; PIN photodiodes; Ion implantation; Aluminum nitride; III-V semiconductor materials; Wide band gap semiconductors;
机译:使用场注入技术改善GaN MOSFET的器件隔离度
机译:气泡石榴石膜中注入应变的热退火:离子注入传播装置的稳定性
机译:GaN离子注入剂量和退火温度的增加对AlGaN / GaN超晶格和GaN外延层中光致发光的影响
机译:离子注入III族氮化物材料和相关装置的退火的改进
机译:GaN-On-GaN垂直功率器件的电子显微镜表征= GaN-On-GaN垂直功率器件的电子显微镜表征
机译:Eu注入和退火对GaN量子点激子复合的影响
机译:p-GaN退火对GaN基LED晶圆和器件性能的影响
机译:利用无缺陷栅极凹陷和激光退火改善alGaN / GaN / si mOsFET的器件性能和可靠性。