机译:N沟道MOSFET的80meV碳和80meV氮离子辐照效应分析
Univ Mysore Dept Studies Phys Mysuru 570006 India;
Univ Mysore Dept Studies Phys Mysuru 570006 India;
Univ Mysore Dept Studies Phys Mysuru 570006 India;
JSS Coll Dept PG Studies Phys Mysuru 570025 India;
Interuniv Accelerator Ctr Dept Mat Sci New Delhi 110067 India;
Univ Mysore Dept Studies Phys Mysuru 570006 India;
N-channel DMOSFETs; swift heavy ion irradiation; Co-60 gamma; oxide trapped charges; interface trapped charges;
机译:80 MeV氮离子辐照对ZnO纳米颗粒的影响:选择性缺陷相关的辐射发射特征的机理
机译:没有电场应力照射N沟道VDMOSFET的γ辐射效应的研究
机译:MOSFET和BJT选择器分析质子和重离子辐照对相变存储器的影响
机译:制备工艺对伽马射线辐照的N沟道MOSFET电气特性的影响
机译:低k材料作为CMOS中的层间电介质:沉积和处理对N沟道MOSFET特性的影响。
机译:对饥饿对动物氮和碳稳定同位素的影响:对禁食实验的荟萃分析的见解的更正
机译:表6:在氮气加入下,氮沉积分析(RDA)前向前选择土壤微生物组成和土壤酶活性的边缘和有条件效应。