机译:氧化物界面陷阱和瞬态增强扩散对PMOS器件工艺建模的影响
机译:界面互扩散引起HfO2 / Al2O3多层存储器件中电荷陷阱能力的增强
机译:界面互扩散引起了HfO_2 / AI_2O_3多层存储器件中电荷陷阱能力的增强
机译:界面陷阱对替代性高迁移率衬底上MOS器件栅极C-V特性的建模影响
机译:接口陷阱和氧化阱对超薄(EOT〜1nm)高κ堆叠栅极电介质MOS器件栅极电容的影响
机译:使用渐近方法,利用靠近硅/二氧化硅界面的薄氧化物,利用量子力学效应对MOSFET器件的电流-电压(I-V)特性进行建模。
机译:界面陷阱和量子尺寸对纳米级存储设备中保留时间的影响
机译:由于与近界面氧化物陷阱的隧道交换,mOs器件中的弛豫效应
机译:在双极器件的发射极 - 基极/氧化物界面处增强的低速辐射诱导电荷俘获