机译:横向超结器件的等效衬底模型
State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China|c|;
Equivalent substrate (ES) model; LDMOS; lateral Super Junction (LSJ); optimized charge compensation layer (CCL);
机译:时变场存在下超导量子干涉装置的等效单结模型
机译:基于横向p-n结的光电器件,其通过在图案化(311)A取向的衬底上掺杂硅的GaAs进行分子束外延生长而制得
机译:基于横向p-n结的光电器件,该器件通过在图案化(311)A取向的衬底上掺杂硅的GaAs进行分子束外延生长制成
机译:氧化物固定电荷对SiC横向超结器件击穿特性的影响
机译:硅-NON - 隔音器基板上的RF横向双极结晶体管
机译:新型窄轮廓铰接动力血管吻合器提供了与常规设备相当的优越的进入和止血功能
机译:1D P-N结电子和光电子从过渡金属二甲基化物横向异质结构通过一锅化学气相沉积合成
机译:衬底和浓度对CuInse2pV器件器件性能,结形成和薄膜微结构的影响