机译:TCAD研究,具有DLC钝化的大型电力设备中的VLD终止
ARCES Research Center University of Bologna Bologna Italy;
ARCES Research Center University of Bologna Bologna Italy;
ARCES Research Center University of Bologna Bologna Italy;
ARCES Research Center University of Bologna Bologna Italy;
HITACHI-ABB Power Grids Lenzburg Switzerland;
HITACHI-ABB Power Grids Lenzburg Switzerland;
Passivation; Doping; Silicon; Junctions; Semiconductor process modeling; Nitrogen; Performance evaluation;
机译:大面积大功率二极管不同掺杂DLC钝化的TCAD调查
机译:大面积大功率二极管DLC涂层的TCAD研究
机译:使用TCAD对商用SiC功率MOSFET器件进行建模的全面详细研究
机译:具有平面结终端的高压功率设备的SIPOS钝化
机译:SOI设备低功耗,高频横向SiGE HBT的优化TCAD模拟
机译:适用于可印刷自供电光电化学装置的天然表面氧化物精选液态金属
机译:VLD边缘终端结构中发生时周期雪崩击穿的研究
机译:利用IsE-TCaD软件模拟在低温下工作的功率mOsFET器件