机译:反应离子刻蚀机和MERIE刻蚀机中薄氧化物带电的空间分布
机译:在N / sub 2 / O环境中在反应离子刻蚀的硅表面上热生长的薄氧化物具有卓越的抗损伤能力
机译:反向沟道蚀刻非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管:源极/漏极金属蚀刻和最终钝化的影响
机译:电感耦合等离子体反应离子刻蚀氧化镍薄膜的刻蚀特性
机译:在SP_6 / O_2等离子体中反应性离子刻蚀4H-SiC薄膜的电性能
机译:在使用Langmuir探针和光发射光谱法的深反应离子刻蚀系统中,等离子体表征和刻蚀速率以及通孔侧壁角度相关。
机译:二甲基亚砜对自腐蚀底漆和表面和深层牙本质的腐蚀和冲洗粘合剂的粘结强度的影响
机译:INOX和ITO薄膜通过等离子体增强反应性热蒸发对结构性能和沉积条件的可蚀刻性依赖性
机译:sF6等离子体中反应离子刻蚀pZT薄膜的表面分析。