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反应离子刻蚀机的控制系统

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本文主要阐述了反应离子蚀机的刻蚀机理,及真空系统中水汽等残余气体、工作压强、基片温度对刻蚀的影响,并着重讨论了基片温度的控制方法.

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来源
《第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会》|2003年|183-186|共4页
会议地点北京
作者
禹庆荣;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
RIE; 反应离子刻蚀机; 刻蚀机理; 温度控制;

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