超大面积扫描式反应离子刻蚀机及刻蚀方法

摘要

本发明属于干法刻蚀技术领域。本发明公开了一种超大面积扫描式反应离子刻蚀机和刻蚀方法。该超大面积扫描式反应离子刻蚀机包括：进样室、刻蚀反应室、过渡室、刻蚀离子产生室。本发明通过沿扫描方向移动样品架在进样室、刻蚀反应室、过渡室之间运动，对放置于样品架上的样品进行扫描刻蚀，可以实现大面积、均匀及高效的刻蚀。