机译:原子层沉积的超薄(2 nm)氧化铝交叉开关电阻式随机存取存储器中的电阻开关和阈值开关的发生
Laboratory of Nanofabrication and Novel Device Integration, Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing, China;
Atomic layer deposition; Electron traps; Resistance; Switches; Tin; Tunneling; AlOx; RRAM; cross-bar; current compliance; threshold switching;
机译:电阻切换参数在电阻随机存取存储器交叉杆阵列的影响
机译:在用于电阻随机存取存储器的8 x 8 Pt / NiNx / Ti / TiN交叉开关阵列结构中观察到稳定的双极电阻开关特性
机译:底部电极的粗糙度对铂/氮化镍/镍1×1交叉式阵列电阻式随机存取存储单元的电阻转换特性的影响
机译:基于超薄a-TiOx薄膜的低工作电压透明电阻式随机存取存储器(T-RRAM)及其电阻切换特性
机译:基于五氧化二铜-铂金器件结构的纳米交叉电阻开关存储器的制作
机译:原子层沉积的Al2O3 / HfO2 / Al2O3三层结构在非易失性存储应用中具有出色的电阻切换特性
机译:通过相氧化氢在均匀和多层GAZNOX基电阻随机存取存储器件中的通过相转变高度可靠的切换
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。