机译:两种阴极靶材在磁控溅射中的等离子体特性模拟
Chinese Acad Sci Inst High Energy Phys Beijing 100049 Peoples R China;
Chinese Acad Sci Inst High Energy Phys Beijing 100049 Peoples R China|Univ Chinese Acad Sci Beijing 100049 Peoples R China;
Magnetron sputter; COMSOL Multiphysics; Plasma properties; Plasma simulation; Cathode targets;
机译:直流磁控溅射,脉冲直流磁控溅射和阴极电弧蒸发沉积的Ti膜的结构和性能
机译:直流双磁控溅射在低温下沉积的Si_xC_y薄膜:提供给Si和C阴极靶的功率对薄膜物理化学性质的影响
机译:大型磁控溅射设备中等离子体形成,靶腐蚀和膜沉积的综合模拟
机译:中空阴极溅射直流等离子体磁控管溅射对平板玻璃生长薄膜阳极效应的影响及不同条件下锌膜溅射铜膜的光学性能研究
机译:溅射靶腐蚀及其对长时间直流磁控溅射镀膜的影响
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:使用分段阴极确定大功率脉冲磁控溅射等离子体中的辐条电流密度分布
机译:射频磁控溅射过程中变换对(1-x)Li4siO4:(x)Li3pO4靶射出的原子和分子种类影响的等离子体诊断研究