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机译:PMOS器件的SiGe源/漏层生长中的原位硼掺杂研究
机译:用于高级pMOS器件的重掺杂硼的锗源极/漏极层的低温选择性生长
机译:Ge pMOS器件的Ge:B和Ge_(0.99)Sn_(0.01):B源/漏的低温外延生长:原位和共形B掺杂,对氧化物和氮化物的选择性,无需任何后上位活化治疗
机译:B掺杂Sige的选择性外延生长和Si的Hcl蚀刻以形成Sige:b凹陷的源极和漏极(pmos晶体管)
机译:Si / Sige的选择性外延,通过嵌入的源/排水管和/或掩埋SiGe通道改进PMOS器件
机译:SiGe PMOS器件上的总电离剂量辐射效应和负偏置温度不稳定性
机译:用于22nm体PMOS晶体管的HK和MG集成了源极和漏极中的高应变SiGe
机译:PMOS器件中SiGe源/漏极层生长中原位硼掺杂的研究