机译:CHF3 / C2F6反应离子刻蚀后改性硅表面的研究
机译:使用神经网络表征CHF3 / CF4磁增强反应离子刻蚀中的通孔刻蚀
机译:通过深反应离子刻蚀和电刻蚀,具有微纳米分层结构的超疏水硅表面
机译:通过深反应离子刻蚀和电刻蚀,具有微纳米分层结构的超疏水硅表面
机译:使用SF6 / CHF3 / He气体混合物对锗进行反应性离子蚀刻
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:基于HBr / O的重掺杂多晶硅反应离子蚀刻的研究
机译:CHF3 / C2F6反应离子蚀刻产生的硅表面残留物的表征及去除
机译:响应面法在多晶硅反应离子蚀刻优化中的应用。