机译:湿法刻蚀中多晶硅残留物的表征和去除
机译:CHF3 / C2F6反应离子刻蚀后改性硅表面的研究
机译:使用神经网络表征CHF3 / CF4磁增强反应离子刻蚀中的通孔刻蚀
机译:臭氧水溶液在等离子体多晶硅蚀刻后的光致抗蚀剂带和灰分中去除的应用
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:用于石墨烯表面残留的机械去除TEM表征
机译:用Xps和拉曼光谱法去除反应离子蚀刻硅表面上的残留物
机译:残留物检测,用于从金属表面实时去除油漆