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机译:通过深反应离子刻蚀和电刻蚀,具有微纳米分层结构的超疏水硅表面
Deep reactive ion etching; Galvanic etching; Hierarchical structure; Superhydrophobic; Two-scale model;
机译:通过深反应离子刻蚀和电刻蚀,具有微纳米分层结构的超疏水硅表面
机译:基于深反应离子刻蚀的硅高级刻蚀,用于硅高纵横比微结构和三维微纳结构
机译:深度反应离子蚀刻参数对具有高纵横比极深硅蚀刻工艺蚀刻速率和表面形态的影响:
机译:基于深度反应离子刻蚀(DRIE)的先进硅刻蚀技术,用于硅损伤以及3D微观和纳米结构
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:结合隔离技术和深反应离子刻蚀形成硅纳米结构
机译:用Au纳米粒子掩模用反应离子蚀刻制备超疏水微纳米杂交结构