机译:通过校正的SIMS深度剖面分析铜铟镓二硒化物/钼层
Institute of Physical Electronics, University of Stuttgart, Pfaffenwaldring 47, D-70569 Stuttgart, Germany;
backside SIMS; depth profiling; cascade mixing; profile correction; CuIn_(1-x)Ga_xSe_2 (CIGS); solar cells;
机译:二次离子质谱(SIMS)的深度分辨率与薄层深度剖面中优先溅射的相关性
机译:具有低能量铯离子的有机三角体层的TOF-SIMS深度分析:深度分辨率评估
机译:XPS结合氩离子溅射是否适合深度剖析钼注入的不锈钢层?
机译:硅,镁和碳离子注入的Gan外延层在SIMS深度分析中二次离子产率的确定
机译:使用ToF-SIMS和簇离子束进行分子深度分析和楔形坑斜切
机译:使用C60-SIMS的掩埋脂质双层的分子深度分析
机译:通过量化AES和SIMS溅射深度剖面来重建GaAs / AlAs超晶格多层结构