机译:使用Sims的半导体器件研究;扩散,污染,过程控制
Analytical Engineering Center. Samsung Advanced Institute of Technology, Mt. 14-1, Nongseo-Dong, Ciheung-Cu, Yongin-Si, Cyeonggi-do, 446-712, Republic of Korea;
SIMS; process control; contamination; diffusion;
机译:通过控制Al_2O_3扩散退火工艺来改善Al_2O_3-封端的HfO_2介电层对TiN栅极p型金属-绝缘体-半导体场效应晶体管的器件特性的影响
机译:双谷半导体和装置的1-D漂移 - 扩散仿真
机译:半导体控制整流器器件中少数载流子分布及其对静电放电应用的影响的研究
机译:钨污染对半导体加工中MOS器件电学特性的影响
机译:互补金属氧化物半导体兼容器件的化学机械抛光和旋涂介电层间介电层的研究
机译:在封闭系统的药物转移装置中添加张力活性剂和异丙醇的去污工艺,可更好地控制隔离剂污染。前瞻性平行研究
机译:纳米级半导体器件中的量子校正漂移扩散建模和隧穿效应仿真
机译:复合半导体中杂质的注入控制扩散及其在微波器件制备中的应用。