机译:光刻胶上的高功率激光干涉光刻工艺:激光能量密度和偏振的影响
CEIT and Tecnun (University of Navarra), Manuel de Lardizdbal 15, 20018, San Sebastian, Spain;
laser interference lithography; lil; photoresist; surface nanostructuring; pulsed lithography;
机译:通过激光干涉,EBDW和NSOM光刻研究AZ 5214E光致抗蚀剂
机译:激光干涉和EBDW光刻中的标准AZ 5214E光致抗蚀剂
机译:使用喷涂/自旋光致抗蚀剂显影方法进行激光干涉光刻,以获得一致的周期性纳米结构
机译:激光干涉光刻技术用于亚微米级材料加工的光刻胶分析
机译:精密准分子激光光刻技术,用于带有厚光刻胶的圆柱形基板。
机译:飞秒激光写入光子电路中的几何控制偏振处理
机译:激光通量对四光束激光干涉硅改性的影响
机译:采用倾斜光纤布拉格光栅结构的单偏振高功率光纤激光器和放大器,具有高消光比的光纤内极化器