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Photovoltaic Properties of p-Doped GaAs Nanowire Arrays Grown on n-Type GaAs(111)B Substrate

机译:在n型GaAs(111)B衬底上生长的p掺杂GaAs纳米线阵列的光伏性能

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摘要

We report on the molecular beam epitaxy growth of Au-assisted GaAs p-type-doped NW arrays on the n-type GaAs(111)B substrate and their photovoltaic properties. The samples are grown at different substrate temperature within the range from 520 to 580 °C. It is shown that the dependence of conversion efficiency on the substrate temperature has a maximum at the substrate temperature of 550 °C. For the best sample, the conversion efficiency of 1.65% and the fill factor of 25% are obtained.
机译:我们报告了在n型GaAs(111)B衬底上Au辅助GaAs p型掺杂NW阵列的分子束外延生长及其光电性能。样品在520至580°C的不同底物温度下生长。结果表明,在550℃的基板温度下,转换效率对基板温度的依赖性最大。对于最佳样品,可获得1.65%的转换效率和25%的填充系数。

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